研究課題
1.Er添加シリコン微結晶酸化膜の作製Erターゲット片個数と酸素ガス流量の制御によって様々な組成のEr : SiO_x膜を作製する前段階として、RFマグネトロンスパッタ装置を使用して酸素ガス流量を変えてa-SiO_x : H膜を成膜した。成膜条件を何十通り変えてa-SiO_x : H膜の光学特性を評価し、酸素ガス流量割合と基板温度の制御によりa-SiO_x : H膜の屈折率を1.6から3.6まで連続的にかつ安定に制御する条件を見出した。吸収の波長分散も明らかにした。次年度、Erターゲット片および高温加熱ヒータ(共に準備済)を使って、様々な組成のEr : SiO_x膜を作製する予定である。2.Er添加シリコン微結晶酸化膜の高温高電圧成膜のための装置改良高温加熱してEr : SiO_x膜のSiを微結晶化し、同時に高電圧印加を試み、極端な高温高電圧条件下で電気光学効果の様な機能性が発現するか探求するため、スパッタ成膜装置の改良を行った。次年度は特に高電圧印加系に改善を行い、Er : SiO_x膜を成膜する予定である。3.Er添加シリコン微結晶酸化膜の特性評価Er : nc-SiO_x膜の電気・化学・光学的な特性として抵抗率、組成、結晶構造、微細構造、分光特性、屈折率、吸収率を測定するため、電気光学効果評価のためのマイケルソン干渉計の立ち上げ、赤外波長域での分光・発光・屈折率・吸収特性を評価するための赤外エリプソの準備を進めた。
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J.Lightwave Technol. vol.27, no.7
ページ: 864-870
J.Lightwave Technol. vol.27, no.10
ページ: 1315-1319
