研究課題
若手研究(B)
メタンおよびシリコン源にモノメチルシラン、ジメチルシランなどの有機ケイ素化合物を用いた高周波プラズマ化学気相成長法により、球状微粒子を含む炭素系薄膜の作製を行った。モノメチルシランの場合、球状微粒子の主成分はシリコンであることがわかった。パルス化基板バイアスまたはモノメチルシランの間欠供給を用いることにより、微粒子の生成と成長を制御できることがわかった。また、希釈ガスの種類、成膜圧力、基板温度によっても微粒子サイズおよび密度が変化することを示した。
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Japanese Journal of Applied Physics
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Diamond and Related Materials
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Diamond-Like Carbon Films Prepared by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition