光誘起転位構造を利用した透明材料への金属ナノ細線の作製

2010 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21760532
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 無機材料・物性
• 研究機関: 京都大学
• 研究代表者: 兼平 真悟 京都大学, 学際融合教育研究推進センター, 特定専門業務職員 (30437248)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 力学 / 電子 / 電磁 / 光 / 熱物性

研究概要

サファイヤ内部にフェムト秒レーザー光を集光照射し、サファイヤに形成する欠陥の形態を確認した。欠陥を導入したサファイヤ単結晶を1200～1500℃で熱処理を行い、欠陥の回復状態の変化を調査した。導入するイオンを含んだ酸化物内部に欠陥を導入したサファイヤ単結晶を埋め込み、熱処理することで欠陥内部にイオンの拡散を促進した。

研究成果

• [雑誌論文] Morphology change from nano crack into periodic pore array formed by femtosecond laser pulses (2011)
  • 著者名/発表者名: C.Moon, S.Kanehira, K.Miura, E.Tochigi, N.Shibata, Y.Ikuhara, K.Hirao
  • 雑誌名: J.Appl.Phys. 109 ページ: 13517
• [雑誌論文] Silicon Precipitation via Photoinduced Reaction Using Femtosecond Laser
  • 著者名/発表者名: M.Nishimura, S.Kanehira, M.Sakakura, Y.Shimotsuma, K.Miura, K.Hirao
  • 雑誌名: J.Nanosci. Nanotechnol. (in printing)
• [雑誌論文] Defect doping and characterization in oxide single crystals using femtosecond laser
  • 著者名/発表者名: S.Kanehira, C.Moon, E.Tochigi, N.Shibata, Y.Ikuhara, K.Miura, K.Hirao
  • 雑誌名: 2010 MRS fall meeting proceedings (in printing)
• [雑誌論文] Formation of Silicon and Silicon-Based Semiconductor Materials via Photoinduced Reaction Using Femtosecond Laser
  • 著者名/発表者名: M.Nishimura, S.Kanehira, M.Sakakura, Y.Shimotsuma, K.Miura, K.Hirao
  • 雑誌名: 2010 MRS fall meeting proceedings (in printing)
• [雑誌論文] Silicon Precipitation In Glass Via Photoinduced Reaction
  • 著者名/発表者名: M.Nishimura, S.Kanehira, M.Sakakura, Y.Shimotsuma, K.Miura, K.Hirao
  • 雑誌名: IOP Conference Series : Materials Science and Engineering (in printing)
• [学会発表] Formation mechanism and applications of laser induced elemental distribution in glasses (Invite)
  • 著者名/発表者名: S.Kanehira, M.Nishimura, K.Miura, K.Hirao, et al.
  • 学会等名: International Symposium on Non-Oxide and New Optical Glasses (XVII ISNOG)
  • 発表場所: in China.
• [学会発表] レーザー光を用いた透明材料における欠陥構造制御
  • 著者名/発表者名: 兼平真悟
  • 学会等名: 第17回レーザー夏の学校(招待ポスター)
• [学会発表] 光誘起反応によるガラス/多層膜接合体へのFe-Si結晶析出と制御
  • 著者名/発表者名: 西村将和, 兼平真悟, 坂倉政明, 下間靖彦, 三浦清貴, 平尾一之
  • 学会等名: 第51回ガラスおよびフォトニクス材料討論会
  • 発表場所: 東京
• [学会発表] レーザーによるガラス内部の元素移動制御
  • 著者名/発表者名: 清水雅弘, 保田直美, 坂倉政明, 兼平真悟, 西正之, 下間靖彦, 三浦清貴, 平尾一之
  • 学会等名: 第51回ガラスおよびフォトニクス材料討論
  • 発表場所: 東京
• [学会発表] Silicon Precipitation in Glass via Photoinduced Reaction Using Femtosecond Laser
  • 著者名/発表者名: M.Nishimura, S.Kanehira, et al.
  • 学会等名: 3rd International Congress on Ceramics (ICC3) in Osaka
  • 発表場所: Japan.
• [学会発表] Phase transformation at interface using femtosecond laser irradiation
  • 著者名/発表者名: S.Kanehira, M.Nishimura, K.Miura, K.Hirao
  • 学会等名: Visual-JW2010, in Osaka, Japan.
  • 発表場所: Invite
• [学会発表] Defect Doping and Characterization in Oxide Single Crystals Using Femtosecond Laser
  • 著者名/発表者名: S.Kanehira, M.Nishimura, K.Miura, K.Hirao, et al.
  • 学会等名: 2010 MRS fall meeting, in Boston
  • 発表場所: USA.
• [学会発表] Formation of Silicon and Silicon-Based Semiconductor Materials via Photoinduced Reaction Using Femtosecond Laser
  • 著者名/発表者名: M.Nishimura, S.Kanehira, et al.
  • 学会等名: 2010 MRS fall meeting, in Boston
  • 発表場所: USA.
• [図書] マイクロ・ナノ領域の超精密技術(日本学術振興会将来加工技術第136委員会編)(分担執筆)
  • 総ページ数: 87-96