超微細加工におけるナノトポグラフィ機構の解明と制御

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 21760584
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (00516958)
• 研究期間 (年度): 2009 – 2011
• キーワード: 材料・加工処理 / リソグラフィ / 量子ビーム / ナノ材料 / 半導体超微細化

研究概要

本研究では、全レジストパターン形成過程におけるナノ空間スケールで起こる現象を完全に解明するために、これまで明らかにしてこなかった脱保護過程と現像過程における反応を調べた。そして、実験で得られた各々のパラメータを使って、シミュレーション解析を行い、実際に形成された微細パターンと比較することで超微細加工におけるナノトポグラフィ形成機構の解明を行い、次世代リソグラフィとして最有力候補であるEUVレジストの開発指針を得ることができた。

研究成果

• [雑誌論文] Dissolution Kinetics in Chemically Amplified EUV Resist (2011)
  • 著者名/発表者名: H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa T. Ando, K. Ohmori, M. Sato, and J. Onodera
  • 雑誌名: Journal of Photopolymer Science and Technology 巻: 24 ページ: 405-410
  • DOI: DOI:10.2494/photopolymer.24.405
  • 査読あり
• [雑誌論文] Characterization of EUV irradiati on effects on Polystyrene Derivatives Studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy(UPS) (2011)
  • 著者名/発表者名: H. Yamamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Tehcnology XXVII 巻: 7972 ページ: 79721H-1-79721H-8
  • DOI: DOI:10.1117/12.879303
• [雑誌論文] Negative Chemically Amplified Molecular Resist Based on Novel Fullerene Derivative for Nanolithography (2010)
  • 著者名/発表者名: H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Ando, K. Ohmori, M. Sato, and J. Onodera
  • 雑誌名: Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Tehcnology XXVII 巻: 7639 ページ: 76390U-1-763090U-8
  • DOI: DOI:10.1117/12.846391
• [学会発表] Dissolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemi cally Amplified Resistsupon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation (2011)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Yamamoto
  • 学会等名: The 12th Pacific Polymer Conference
  • 発表場所: Jeju・Korea
  • 年月日: 2011-11-14
• [学会発表] Disolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified EUV Resists (2011)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Yamamoto
  • 学会等名: 2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
  • 発表場所: Miami Florida・USA
  • 年月日: 2011-10-17
• [学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 山本洋揮
  • 学会等名: 2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 山形大学(山形市)
  • 年月日: 2011-08-30
• [学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析 (2011)
  • 著者名/発表者名: 山本洋揮
  • 学会等名: International Conference of Photopolymer Sciecne and Technology
  • 発表場所: 千葉大学(千葉市)
  • 年月日: 2011-06-24
• [学会発表] ナノリソグラフィ用新規フラーレン誘導体に基づいたネガ型化学増幅型分子レジスト (2010)
  • 著者名/発表者名: 山本洋揮
  • 学会等名: 第71回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 長崎大学文教キャンパス(長崎市)
  • 年月日: 2010-09-14
• [学会発表] 化学増幅型EUVレジストにおける脱保護反応 (2009)
  • 著者名/発表者名: 山本洋揮
  • 学会等名: 第52回放射線化学討論会
  • 発表場所: 福井工業大学福井大学(福井市)
  • 年月日: 2009-09-26