研究課題
若手研究(B)
本研究では、全レジストパターン形成過程におけるナノ空間スケールで起こる現象を完全に解明するために、これまで明らかにしてこなかった脱保護過程と現像過程における反応を調べた。そして、実験で得られた各々のパラメータを使って、シミュレーション解析を行い、実際に形成された微細パターンと比較することで超微細加工におけるナノトポグラフィ形成機構の解明を行い、次世代リソグラフィとして最有力候補であるEUVレジストの開発指針を得ることができた。
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すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (6件)
Journal of Photopolymer Science and Technology
巻: 24 ページ: 405-410
DOI:10.2494/photopolymer.24.405
Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Tehcnology XXVII
巻: 7972 ページ: 79721H-1-79721H-8
DOI:10.1117/12.879303
巻: 7639 ページ: 76390U-1-763090U-8
DOI:10.1117/12.846391