• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2021 年度 審査結果の所見

先端アクアプラズマプロセスによる環動高分子を用いた革新的タフコンポジットの創製

研究課題

研究課題/領域番号 21H04450
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分14:プラズマ学およびその関連分野
研究機関東京大学

研究代表者

寺嶋 和夫  東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 教授 (30176911)

研究期間 (年度) 2021-04-05 – 2025-03-31
研究の概要

本研究は、独自性の高い先端的なアクアプラズマプロセス技術を応用して、高い耐久性を持つ高熱伝導性のフレキシブル複合材料の製造方法を開拓する研究計画である。多相・超臨界流体・クライオプラズマなどの先端アクアプラズマプロセスにより、無機粒子表面の改質を行い、環動高分子との複合化を行うことで、応力集中が起きにくく金属並みの熱伝導度を持ったソフトマテリアルの創製を目指している。

学術的意義、期待される成果

独自のアクアプラズマプロセス技術を今後需要が大きく伸びるであろうフレキシブル複合材に適用することで、これまでの複合化に伴う脆さを克服できる可能性があり、本研究で目指している柔軟性と機能性を兼ね備えた材料の創製は、情報や医療などの広範な分野に波及効果が期待される。

URL: 

公開日: 2021-07-07  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi