研究課題
基盤研究(A)
弱電離プラズマにおける原子層プロセスの理解と制御を目的として、ビーム実験、プラズマ実験、数値シミュレーションを通して、マクロシステムであるプラズマのダイナミックス及び気相化学反応から、表面の多様な反応素過程までの多階層を統合的に理解する。
本研究の成果は、固体表面反応プロセス全般に展開可能であり、一般の反応プロセスを表面原子レベルで制御可能とする「表面プロセス工学」という新しい学術を切り拓く。独自の手法で半導体製造技術などの基礎を体系的に確立しようとする提案であり、産業界への波及効果も大いに期待できる。