研究課題/領域番号 |
21H04635
|
研究種目 |
基盤研究(A)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
中区分28:ナノマイクロ科学およびその関連分野
|
研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
野村 政宏 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (10466857)
|
研究分担者 |
中村 芳明 大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 教授 (60345105)
澤野 憲太郎 東京都市大学, 理工学部, 教授 (90409376)
|
研究期間 (年度) |
2021-04-05 – 2026-03-31
|
研究の概要 |
フォトンとフォノンのアナロジーを切り口とし、フォトニクスを伝熱工学に取り入れることで、半導体ナノ構造を用いた熱流制御技術であるサーマルフォノンエンジニアリング基盤技術を構築し、伝熱制御に新展開を創出するものである。ナノスケール領域において、フォノンの弾道性と波動性が顕著になることを利用し、高度な熱輸送制御の実現を目指している。
|
学術的意義、期待される成果 |
幾何光学と波動光学への対応を通じ、弾道フォノニクスおよび格子振動の波動的性質を利用した熱フォノニクスについて体系化し、マクロスケールの拡散的熱輸送では決して実現できない、次世代熱マネジメント技術に資する高度伝熱制御が期待される。伝熱工学を光工学のように学問体系化し、新規物理探索、概念の提唱・実証、新機能の実現などを推進するという学術的価値を有する。
|