| 研究課題/領域番号 |
21H04651
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
中区分29:応用物理物性およびその関連分野
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
長谷川 達生 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (00242016)
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| 研究分担者 |
井上 悟 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (00799562)
東野 寿樹 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究員 (30761324)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-05 – 2025-03-31
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| 研究の概要 |
有機半導体のデバイス応用に際して重要な溶液プロセスの開発によって印刷や塗布技術への展開を目指し、様々なデバイス応用学理を追求していく研究である。
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| 学術的意義、期待される成果 |
一般的に言って有機半導体は無機半導体に比べて性能が劣る。分子設計と精緻な塗布技術により、キャリアが伝導する絶縁層上だけでなく、キャリア注入がおこる電極との界面においても配列し、それぞれキャリア輸送とキャリア注入を効率的に行える系の指針を確立しようとする、基礎学理においても応用上も重要なものである。
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