2023 年度研究成果報告書

複合パルスレーザー蒸着法による酸化物半導体成膜

研究課題

研究課題/領域番号	21K03523
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	基金
応募区分	一般
審査区分	小区分14030:プラズマ応用科学関連
研究機関	大阪大学
研究代表者	伊庭野健造大阪大学, 大学院工学研究科, 助教 (80647470)
研究期間 (年度)	2021-04-01 – 2024-03-31
キーワード	プラズマプロセス / 酸化物半導体 / パルスレーザー / 薄膜
研究成果の概要	ECRプラズマを背景とした複合PLDにより、アブレーション中タングステン粒子の輸送及び堆積が確認された。さらに、酸素プラズマの使用で酸化タングステンの薄膜が形成され、化学反応を伴う堆積が可能であることが示された。また、マグネトロンプラズマ源を用いた複合PLD装置も整備され、LiCoO3薄膜の成膜に成功し、酸素プラズマによる酸素欠陥の低減効果についても示された。
自由記述の分野	プラズマ理工学
研究成果の学術的意義や社会的意義	本研究は、PLDプロセスにおいて背景プラズマを用いた場合の影響を明確にし、酸化物薄膜の組成制御が可能であることを実証した。これにより、酸化物半導体など高機能材料の開発に対する新たなアプローチが提供された。特に、高性能リチウムイオン電池の電極材料開発において、本技術は重要な貢献を果たす可能性がある。