| 研究課題/領域番号 |
21K08883
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| 研究機関 | 山口大学 |
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研究代表者 |
原田 栄二郎 山口大学, 医学部附属病院, 講師 (90467803)
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| 研究分担者 |
村上 順一 山口大学, 医学部附属病院, 助教 (10725683)
田中 俊樹 山口大学, 医学部附属病院, 講師 (50457305)
竹本 圭宏 山口大学, 医学部附属病院, 助教 (50622213)
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| 研究期間 (年度) |
2021-04-01 – 2024-03-31
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| キーワード | 抗癌剤抵抗性 / RNA修飾酵素 |
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| 研究実績の概要 |
本年度は、日本人由来のヒト扁平上皮癌細胞株 RERF-LC-AIに対して、ドセタキセルおよびペメトレキセドを添加培養した時の、RNA修飾酵素の発現レベルをqPCRで解析した。
RERF-LC-AIにドセタキセルおよびペメトレキセドを100ｎMの濃度でそれぞれ添加して、48時間培養し、細胞からtotal RNAを抽出し、代表的な12種類のRNA修飾酵素の遺伝子発現レベル(AHCY、ALKBH5、FTO、HENMT1、HNRNPC、NSUN2、PNP、RNMT、TRMT6、TRMT61A、YTHDF2、METTL3) をqPCRで解析した。
ドセタキセルの添加では、12種類の遺伝子のうちAHCY、FTO、TRMT61A、YTHDF2の4種類の遺伝子の発現がコントロールに比べ10倍以上上昇した。ペメトレキセドの添加では12種類の遺伝子のうちAHCY、FTO、HENMT1、HNRNPCの4種類の遺伝子の発現がコントロールに比べ10倍以上上昇した。
発現が上昇した4種類の遺伝子（AHCY、FTO,YTHDF2、TRMT61A）を個別にノックダウンする為に、遺伝子の標的配列をin silico解析から、個々の遺伝子に対して3種類ずつ選択し、shRNAウイルスベクターを作製した。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
ドセタキセルおよびペメトレキセドを添加培養した時に、共通して発現レベルが上昇するRNA修飾酵素を複数特定することが出来た為。
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| 今後の研究の推進方策 |
RERF-LC-AI細胞のAHCY、FTO、TRMT61A、YTHDF2を個別にノックダウンした細胞を作製し、ドセタキセルおよびペメトレキセドに対する抵抗性を確認する実験を行う。
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| 次年度使用額が生じた理由 |
予定より消耗品の納入金額を抑えることが出来たため、次年度使用額が生じた。
次年度使用額は、物品費として使用する。
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