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DNA損傷はDNA複製の進行を阻害し、ゲノム不安定化の要因となるため、細胞にはDNA複製阻害を解消するDNA損傷トレランス機構が備わっている。DNA損傷トレランスには複数の経路があり、DNA複製に必須のスライディングクランプであるPCNAのユビキチン化が制御機構に重要であることが示唆されている。DNA損傷トレランスの経路のうち、損傷乗り越えDNA合成(TLS)は最も解析が進んでおり、損傷の種類に応じたTLSポリメラーゼが損傷部分のDNA合成を行う。一方、ヒト細胞ではTLS以外の経路のメカニズムは不明な点が多い。本研究ではDNA損傷剤としてDNA付加体を作り、DNA複製を阻害するイルジンSを用いている。我々はイルジンSを用いた解析により、ユビキチンE3リガーゼであるRFWD3がヒト細胞でTLSとは独立してPCNAのユビキチン化に依存したDNA損傷トレランスに関与することを見出している。
本研究ではRFWD3の関与するPCNAのユビキチン化に依存したDNA損傷トレランスの解析を行った。RFWD3のユビキチンリガーゼ活性、及びクロマチンへの局在、複製因子のRPAとの相互作用がDNA損傷トレランスに重要であることを示した。また、RFWD3が紫外線損傷に対してもPCNAのユビキチン化に依存したDNA損傷トレランスに重要であることを示した。紫外線損傷に対しても、イルジンS損傷と同様にTLSとは独立して働いていると考えられた。さらに本年度はRFWD3発現抑制細胞のイルジンS、紫外線誘発変異実験を行い、RFWD3の発現抑制が変異頻度に影響しないことを見出した。さらにRFWD3と相互作用する因子の解析を行い、新たにRFWD3と細胞内で相互作用する因子を見出した。
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