|
紫外線は、主に、CPD（cyclobutane pyrimidine dimers）および6-4PPs（pyrimidine-pyrimidone (6-4) photoproducts）の２種類の光産物を生じ、さらに、ゲノム不安定性を伴う皮膚がんのリスク要因となる。しかし、CPDと6-4PPsの２種類の光産物のうち、どちらがどの様にゲノム不安定性の誘導に関わるのかは不明であった。同様に、電離放射線のばく露でも、複数のタイプのDNA損傷が生じ、がんとゲノム不安定性のリスク要因となるが、どの損傷がどの様にゲノム不安定性のリスク上昇に関わっているのかは不明であった。
本研究では、紫外線および電離放射線のばく露によって生じる複数のタイプのDNA損傷の中で、どのタイプのDNA損傷が、どの様にゲノム不安定性のリスク上昇に関わるのか、そのメカニズムを明確にすることを目的とした。本研究からは、放射線と紫外線にばく露後は様々なタイプのDNA損傷が生じるが、どちらの場合でも、DNA複製ストレスに伴うDSB（そのリスク要因のDNA損傷は放射線と紫外線で異なる）に起因し、ゲノム不安定性が誘導されることが示された。これは、通常の老化過程でリスク上昇する場合と同じである。結果的に、放射線と紫外線もよる外的な損傷は、DNA複製ストレスに伴うDSBの蓄積とこれに伴うゲノム不安定性に対する促進要因となっていた。MEFのモデルでは、その結果、不死化細胞のクローン進化誘導も促進した。
|
