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紫外線は、主に、CPDおよび6-4PPsと呼ばれる２種類の光産物をしょうじ、さらに、ゲノム不安定性を伴う皮膚がんのリスク要因となる。しかし、どの様にこれらの光産物がゲノム不安定性を生じているのかは不明であった。同様に、電離放射線のばく露でも、複数のタイプのDNA損傷が生じるが、どの損傷がどの様にゲノム不安定性のリスク上昇に関わっているのかは不明であった。本研究では、ゲノム不安定性のリスク上昇に関わるDNA損傷を明確にすることを目指した。その結果、どちらの場合でもDNA複製ストレスに伴うDSBが蓄積し、これに起因してゲノム不安定性が現れることが示された。
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