• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2023 年度 研究成果報告書

金属/絶縁体相転移界面におけるフォノン散乱挙動の解明

研究課題

  • PDF
研究課題/領域番号 21K14092
研究種目

若手研究

配分区分基金
審査区分 小区分19020:熱工学関連
研究機関長岡技術科学大学

研究代表者

馬場 将亮  長岡技術科学大学, 工学研究科, 助教 (10826176)

研究期間 (年度) 2021-04-01 – 2024-03-31
キーワード金属ー絶縁体相転移
研究成果の概要

本研究では,金属/絶縁体界面のフォノン散乱を解明することを目的とし,金属―絶縁体相転移材料であるVO2およびWをドープしたVO2(W-VO2)の成膜技術の確立とVO2単相のバルク体の熱物性の測定を行った.VO2およびW-VO2の成膜では,スパッタリング法を用いた成膜法により3桁以上抵抗変化をするVO2膜を作製できた.さらに成膜したW-VO2の相転移温度はVO2の相転移温度より低下しており,Wドープにより相転移温度が制御できることが実証できた.VO2の焼結では,理論密度に対する相対密度が95%以上の焼結体を作製できた.焼結体の潜熱,比熱,熱伝導率を測定し,VO2単相の物性を明らかにした.

自由記述の分野

伝熱工学

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究で用いた成膜手法は,スパッタリング法によりアモロファス相のVO2を成膜し,熱処理によって結晶化させる手法である.この手法は,大面積の成膜が可能,成膜時に酸素の調整が不要,基板の加熱が不要という利点があり,他の成膜手法と比べて工業的に有利である.本研究では,この成膜手法で未知であった熱処理条件と膜の物性との関係を明らかにし,MITに伴う抵抗変化が大きいVO2膜を作製できる条件を明らかにした.この成果は,VO2膜を用いたデバイスの製品化に貢献すると考えられる.

URL: 

公開日: 2025-01-30  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi