口蓋癒合後の離開による口蓋裂発生機序－骨、筋関連遺伝子とIRF6の影響について－

2023 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 21K17194
• 研究機関: 愛知学院大学
• 研究代表者: 佐久間 千里 愛知学院大学, 歯学部, 歯学部研究員 (40849709)
• 研究期間 (年度): 2021-04-01 – 2024-03-31
• キーワード: 口蓋裂 / 口唇口蓋裂

研究実績の概要

申請者は、口蓋裂発症機序について研究しており、特に、一旦癒合した口蓋が離開する機序について、基底膜の断裂によって離開することを明らかにしてきた(Sakuma: J Craniomaxillofac Surg. 46(12):2027-2031, 2018)。これまで、TCDD投与群の口腔粘膜の基底膜の断裂を認めた部位では、E-cadherinの消失を認めたことから、一度癒合した口蓋部における基底膜の破断と上皮組織の異常増殖や細胞間接着の低下と間葉系細胞の増殖阻害が複雑に影響し、上皮間葉転換の異常を生じて口蓋裂を発症する可能性があることを報告した(Sakuma: Int J Mol Scu. 23(4):2069, 2022)。さらに、TCDD投与マウスの口蓋前方から中央部付近にかけて癒合している個体の口蓋後方では口蓋は離開しており、口蓋突起の上皮組織が確認されていることから、一旦癒合した口蓋が離開する機序において離開した口蓋部の上皮組織や基底膜の異常を明らかにし、口蓋が離開していくメカニズムを明らかにしようとしているが、未だ十分な結果は得られておらず、継続して研究を進めている。
また、申請者は他の研究者と共同で、ベトナム人における非症候性口唇・口蓋裂（NSOFC）の病因について、527 の症例-親トリオと 527 の対照サンプルを収集することにより、さまざまな NSOFC 表現型に基づいて層別分析を実施した。IRF6 rs2235375 と NSCLP および NSCL/P との関連について明らかにし、NSCL/Pに関連する新規マーカーとしてIRF6 rs846810、NSOFCに関連するIRF6のrs2235375-rs846810のハプロタイプG-GおよびC-Aを同定した(Pham LNG, Sakuma: Genes(Basel) 14(11):1995, 2023)。

研究成果

• [雑誌論文] Association between IRF6, TP63, GREM1 Gene Polymorphisms and Non-Syndromic Orofacial Cleft Phenotypes in Vietnamese Population: A Case-Control and Family-Based Study (2023)
  • 著者名/発表者名: Pham LNG, Niimi T, Suzuki S, Nguyen MD, Nguyen LCH, Nguyen TD, Hoang KA, Nguyen DM, Sakuma C, Hayakawa T, Hiyori M, Natsume N, Furukawa H, Imura H, Akashi J, Ohta T, Natsume N
  • 雑誌名: Genes 巻: 14 ページ: 1995
  • DOI: 10.3390/genes14111995
  • 査読あり