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最終年度は、前年度までに得られていた偏波多重・ゲイン媒質共有型の偏波保持デュアルコムレーザーのノイズ特性に関する知見を論文として発表した。その後、機械共有型の偏波保持デュアルコムレーザーを開発した。2つの光コムの繰り返し周波数差およびオフセット周波数差の安定度を評価した。その結果、2つのレーザーの励起光源を共通化する、レーザー共振器を筐体に収めて環境外乱の影響を減らす、といった方法で繰り返し周波数差およびオフセット周波数差の安定度が向上することが確認できた。
本研究では、2つの光コムを発生するデュアルコムレーザーのキャリアエンベロープオフセット周波数差を精密計測に応用するというアイデアのもと、まず偏波多重・ゲイン媒質共有型の偏波保持デュアルコムレーザーを開発し、偏光状態の計測について検証した。開発したレーザーの偏波間の残留クロストークの影響を調べるため、モード同期の再現性、レーザーの相対強度雑音、繰り返し周波数の位相雑音を測定した。その結果、モード同期の再現性は高く、繰り返し周波数の位相雑音は、シングルコム動作時と同等で十分に小さいことが確認された一方で、強度雑音パワースペクトル密度には、2つのモード同期の繰り返し周波数の差周波数とその高調波に相当する周波数に鋭いノイズピークが観測された。
偏波多重・ゲイン媒質共有型は強度雑音が大きかったため、続いて機械共有型の偏波保持デュアルコムレーザーを開発した。2つの光コムの繰り返し周波数差およびオフセット周波数差の安定度を評価した。
現在までにデュアルコムレーザーの発振機構に依存するノイズ特性を考慮する必要があるという知見が得られた。今後は当初のアイデアを実現するのに適したデュアルコムレーザーの機構を模索するとともに、偏光計測や磁場計測などへの応用を検証していく。
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