| 研究課題/領域番号 |
22226002
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| 研究種目 |
基盤研究(S)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
応用物性・結晶工学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
宗片 比呂夫 東京工業大学, 像情報工学研究所, 教授 (60270922)
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| 連携研究者 |
北本 仁孝 東京工業大学, 総合理工学研究科(研究院), 教授 (10272676)
西林 一彦 東京工業大学, 像情報工学研究所, 研究員(特任講師) (20361181)
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| 研究期間 (年度) |
2010-04-01 – 2016-03-31
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| キーワード | 光励起 / 磁化才差運動 / 超高速現象 / コヒーレント制御 / 強磁性半導体 / 界面強磁性積層膜 / 導波路 / スピンフォトニクス |
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| 研究成果の概要 |
磁気パルスによる磁化反転時間限界2ピコ秒打破を目指し、フェムト秒光パルスによる磁化操作の研究を行った。強磁性半導体の磁化の光励起才差運動がMnの光イオン化による磁気異方性変化によること見出し、サブピコ秒間隔光パルス対による才差運動の非線形振幅制御を達成した。弱い光パルスで磁化才差運動が生ずるCo-Pd積層薄膜を発見し、スピン光デバイスの候補材料を得た。磁性薄膜と光ファイバを複合化した導波路デバイスを試作し、導波光偏波変調が薄膜の磁化変調位置と導波モードによって選択可能であることを見出し、スピン光デバイスの基礎を拓いた。スピン発光ダイオードを試作し、室温で円偏光切替え100 kHzを達成した。
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| 自由記述の分野 |
スピントロニクス
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