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2012 年度 実績報告書

エピタキシャル成長その場マイクロX線回折による単一ナノ構造解析と均一性制御

研究課題

研究課題/領域番号 22360010
研究機関独立行政法人日本原子力研究開発機構

研究代表者

高橋 正光  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (00354986)

研究期間 (年度) 2010-04-01 – 2014-03-31
キーワード放射光X線回折 / 量子細線 / 分子線エピタキシー
研究概要

自己形成量子ドット・量子細線など半導体ナノ構造のエピタキシャル成長において、構造の均一化は重要な課題である。本研究は、同じ成長条件下にありながら、個々のナノ構造間にゆらぎが生じる原因を解明するため、単一の量子ドット・量子細線などのエピタキシャル成長条件下におけるその場X線回折をおこなうことを最終的な目的としている。
本年度に測定対象としたのは、GaAsおよびInAs量子細線である。量子細線の成長方法としては、金微粒子を触媒とするVLS(Vapor-Liquid-Solid)成長法と、GaもしくはIn自身が触媒として作用する自己触媒成長法の両方を実施した。
自己触媒InAs量子細線では、同一基板上で、特定の結晶構造を持った量子細線の分布をマッピングすることに成功した。リソグラフィーにより規則的に配列した開口部をもつマスク付きシリコン基板を用い、結晶成長その場X線回折装置内で自己触媒InAs量子細線を成長させた。量子細線に特有なウルツ鉱構造からのマイクロビームX線回折強度を測定しながら、試料基板をスキャンすることで、量子細線の配列に対応する強度分布のデータが取得された。これにより、マイクロビームX線回折を用いて、量子細線の構造ゆらぎをその場評価する手法が実証された。
金触媒を用いたGaAs量子細線成長では、成長条件および成長段階による結晶構造の変化が熱力学的な核形成理論に基づいて理解できることを示した。また、成長中断中にウルツ鉱構造が閃亜鉛鉱構造に変化するという予想外の現象をその場X線回折により見出すことができた。これらは、量子細線の構造制御につながる知見である。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

本年度の研究を通じて、量子細線・量子ドットの構造ゆらぎの原因を解明し、構造制御につなげるその場X線回折測定の技術的基盤が蓄積された。マイクロビームX線回折の実験において、実験室の温度変化による光学系の不安定性が測定精度を低下させる主要な原因であることをつきとめ、室内の熱源をできるだけ取り除くなどの対処を進めた。その結果、成長条件下で単一量子細線からのX線回折およびその基板上での分布の測定ができるようになった。シリコン上に成長させたサブミクロンサイズのGaAs島の測定もおこない、量子ドット構造の測定に向けた道筋をつけることができた。以上のように、単一の量子構造のその場X線回折測定技術が進んだほか、当初は予想していなかった興味深い結果も得られている。
また、応用物理学会、分子線エピタキシー国際会議を含む国内外での学会発表や、国際学術誌上での論文発表をおこない、成果発表を着実に進めた。

今後の研究の推進方策

これまでの研究により、測定時間を短縮することが光学系の不安定性を取り除き、良質のデータをとるために重要であることが明らかとなっている。そのため、測定技術の面からは、高感度な検出器を利用できるよう、回折計まわりのアクセサリの整備およびソフトウェアの作成を進める。試料の面では、パターン基板上に作成した細線・ドット構造に集中する。量子細線については、コアシェル量子細線など、より複雑な構造の試料を作製し、その場マイクロビームX線回折の測定手法としての可能性を拡大する。量子ドットについては、パターン基板上に選択成長したサブミクロンサイズの島状結晶について、結晶内部のひずみや欠陥の評価技術への発展をめざす。

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2013 2012 その他

すべて 雑誌論文 (2件) 学会発表 (9件)

  • [雑誌論文] X-ray micro-beam focusing system for in situ investigation of single nanowire during MBE growth2013

    • 著者名/発表者名
      W. Hu, M. Takahasi, M. Kozu and Y. Nakata
    • 雑誌名

      Journal of Physics : Conference Series

      巻: Vol.425 ページ: 202010

    • DOI

      10.1088/1742-6596/425/20/202010

  • [雑誌論文] High-speed three-dimensional reciprocal-space mapping during molecular beam epitaxy growth of InGaAs2012

    • 著者名/発表者名
      W. Hu, H. Suzuki, T. Sasaki, M. Kozu and M. Takahasi
    • 雑誌名

      J. Appl. Cryst.

      巻: Vol.45 ページ: 1046-1053

    • DOI

      10.1107/S0021889812036175

  • [学会発表] X-ray micro-beam focusing system for in situ investigation of single nanowire during MBE growth

    • 著者名/発表者名
      Wen Hu
    • 学会等名
      11th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation
    • 発表場所
      Lyon, France
  • [学会発表] Characterization of self-assisted InAs nanowire on Si substrate during MBE growth using in-situ X-ray diffraction

    • 著者名/発表者名
      Wen Hu
    • 学会等名
      The 17th International Conference on Molecular Beam Epitaxy
    • 発表場所
      Nara, Japan
  • [学会発表] Three-dimensional X-ray reciprocal-spacemapping of GaAs epitaxial films on Si(001)

    • 著者名/発表者名
      Masamitu Takahasi
    • 学会等名
      The 17th International Conference on Molecular Beam Epitaxy
    • 発表場所
      Nara, Japan
  • [学会発表] In-situ X-ray diffraction during Au-assisted growth of GaAs nanowires

    • 著者名/発表者名
      Miwa Kozu
    • 学会等名
      The 17th International Conference on Molecular Beam Epitaxy
    • 発表場所
      Nara, Japan
  • [学会発表] Si(001)上のGaAs成長のその場X線回折

    • 著者名/発表者名
      仲田侑加
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      松山大学
  • [学会発表] Au触媒GaAsナノワイヤにおける構造多形の成長速度依存性

    • 著者名/発表者名
      高橋正光
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
  • [学会発表] GaAsナノワイヤ成長中断時の結晶構造変化

    • 著者名/発表者名
      神津美和
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
  • [学会発表] In situ X-ray diffraction study of GaAs growth on Si

    • 著者名/発表者名
      Masamitu Takahasi
    • 学会等名
      40th Conference on the Physics and Chemistry of Surfaces and Interfaces
    • 発表場所
      Waikoloa, USA
  • [学会発表] X-ray diffraction from polytypes in Au-assisted GaAs

    • 著者名/発表者名
      Masamitu Takahasi
    • 学会等名
      The 40th International Symposium on Compound Semiconductors
    • 発表場所
      Kobe, Japan

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公開日: 2014-07-24  

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