研究課題
基盤研究(B)
本研究は,ホログラフィックフェムト秒レーザー加工に関して,これまでのレーザーパルスの空間的な制御に加えて,時間制御,偏光制御を同時に行い,これまでにないレーザーパルスによる物質励起を可能にして,高付加価値なレーザー加工を実現した.さらに,ポンプ・プローブ干渉顕微鏡によるレーザー誘起現象の観測を行い,励起領域の前方伸長現象や時空間ダブルパルスによる光励起の増強等の興味深い現象を発見した.
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