研究課題/領域番号 |
22360034
|
研究種目 |
基盤研究(B)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
応用光学・量子光工学
|
研究機関 | 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所 |
研究代表者 |
武居 弘樹 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 量子光物性研究部, 主幹研究員 (60393790)
|
研究分担者 |
松田 信幸 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 研究員 (10587695)
倉持 栄一 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 主任研究員 (10393802)
清水 薫 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 主幹研究員 (50426607)
納富 雅也 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所, 主幹研究員 (50393799)
|
研究期間 (年度) |
2010 – 2012
|
キーワード | シリコンフォトニクス / シリコン細線導波路 / フォトニック結晶 / 量子もつれ / 量子光学 / 非線形光学 |
研究概要 |
シリコンフォトニクス技術を用いて、光子を用いた大規模な量子情報処理を行うために必要な「集積化量子光回路」を実現するための基盤技術を確立した。具体的には、ワンチップ集積化シリコン細線導波路による偏波もつれ光子対発生源、シリコンフォトニック結晶結合共振器光導波路中のスローライト効果を用いた高効率量子相関光子対発生源および量子バッファなどを実現した。
|