| 研究課題/領域番号 |
22360146
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| 研究機関 | 兵庫県立大学 |
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研究代表者 |
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授 (70285336)
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| 研究分担者 |
木下 博雄 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (50285334)
原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
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| キーワード | EUVリソグラフィ / 半導体 / 微細加工技術 / 干渉霞光 / レジスト |
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| 研究概要 |
線幅20nm以下のレジストパタン形成を目的にEUV干渉露光系露光系の開発を進めている。以下の2項目について成果が得ることができたので報告する。
1. 干渉露光用高精度回折格子製作
2光束干渉露光用透過型回折格子の製作では、SiO_2薄膜とTaN薄膜の2層構造膜にドライエッチング法を適用したSiO_2のハードマスクプロセスを導入し、線幅35nmラインアンドスペースパタンを有する透過型回折格子の製作に成功した。2光束干渉露光では形成できるレジストパタンの線幅は、透過型回折格子の半分の線幅であり、線幅17.5nmライン・アンド・スペースのレジストパタンを確認した。
2. 干渉露光系の高度化
20nm以下のレジストパタン形成を目的に、ビームラインとEUV干渉露光装置を改良し、露光装置をクラス100のサーマルクリーンチャンバー内に移設した。
1) 露光時間短縮を目的に、ビームライン光学系の設計変更を進め、ミラー枚数を4枚から3枚に低減することにより照射強度を向上させた。
2) 露光装置の透過型回折格子用真空ステージを改良し、剛性を高め振動除去を進め、30nm程度の振動を10nm程度に抑えることができた。これらの結果、17.5nmのレジストパタン形成に成功した。
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