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2010 年度 実績報告書

バイオミメティック超高速・高効率エレクトロクロミック薄膜の高耐久化

研究課題

研究課題/領域番号 22360266
研究機関千葉工業大学

研究代表者

井上 泰志  千葉工業大学, 工学部, 教授 (10252264)

キーワード吸着誘起型EC / 窒化インジウム / 斜め堆積法 / バイオミメティック / ナノロッド構造 / 窒素ラジカル支援真空蒸着 / 反応性スパッタリング / 繰返し耐久性
研究概要

窒素ラジカル支援真空蒸着法に斜め堆積法を適用し,微絨毛状のナノ構造を有する窒化インジウム(InN)薄膜を作製した.作製膜において,波長680nmで最大の透過率変化(ΔT)約40%を示す,吸着誘起型エレクトロクロミック(EC)現象を確認した.EC繰返し耐久試験の結果,ΔTの値は,色変化の繰返しに伴い徐々に減少するが,試料によるばらつきが数十回~数千回以上と極めて大きいことが確認された.今後,材料破壊試験等に利用されるような統計的データ解析が必要である.どの試料にも共通した傾向として,カソード分極時(明色側)の透過率低下が顕著であり,アノード分極側(暗色側)の劣化は全く見られなかった.EC繰返し耐久試験後の試料には,大きく分けて2種類の明らかな膜劣化が観察された.第一の劣化は,電解液面付近の膜の透明化であり,調査の結果,InNの酸化インジウム化が起こっている可能性が示唆された.電解液中の溶存酸素が,有力な劣化要因であると考えられる.第二の劣化は,部分的な明色化の阻害である.ただし,結晶学的変化や,明確な膜剥がれ等の巨視的構造劣化は見られなかった.吸着誘起型EC現象のメカニズムに基づけば,暗色化時の挙動に全く劣化が見られないことから,膜の有効表面への,キャリア電子または陽イオンの供給に,何らかの阻害因子が発生したと考えられる.
また,酸化インジウム・スズ(ITO)薄膜を反応性スパッタリング法により作製し,InNと同様の吸着誘起型EC現象を確認した.

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2011 2010

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (10件)

  • [雑誌論文] Electrochromic phenomenon in indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering2010

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Inoue, Jun Matsui, Hiroyuki Ishikawa, Hayato Tsuda, Osamu Takai
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 518 ページ: S6-S9

    • 査読あり
  • [雑誌論文] プラズマ環境における動的斜め堆積法2010

    • 著者名/発表者名
      井上泰志, 高井治
    • 雑誌名

      表面技術

      巻: 61 ページ: 209-212

    • 査読あり
  • [学会発表] 斜め堆積法を適用したプラズマ成膜プロセスのモンテカルロシミュレーション2011

    • 著者名/発表者名
      井上泰志
    • 学会等名
      表面技術協会第123回講演大会
    • 発表場所
      関東学院大学(東日本大震災のため概要発行のみ)
    • 年月日
      2011-03-17
  • [学会発表] 斜め堆積法を適用した反応性スパッタ膜における微細構造制御性2011

    • 著者名/発表者名
      篠崎直人, 井上泰志
    • 学会等名
      表面技術協会第123回講演大会
    • 発表場所
      関東学院大学(東日本大震災のため概要発行のみ)
    • 年月日
      2011-03-17
  • [学会発表] 吸着誘起型エレクトロクロミックInN薄膜の繰り返し耐久性2011

    • 著者名/発表者名
      梅田祐史, 井上泰志
    • 学会等名
      表面技術協会第123回講演大会
    • 発表場所
      関東学院大学(東日本大震災のため概要発行のみ)
    • 年月日
      2011-03-17
  • [学会発表] Influences of Nanocolumnar Morphology on Adsorption-induced Electrochromism of Reactive-sputtered Nitride and Oxide Films2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Inoue, N.Shinozaki, H.Tsuda, O.Takai
    • 学会等名
      日本MRS第20回学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜市開港記念会館(神奈川県)
    • 年月日
      2010-12-21
  • [学会発表] 斜め堆積反応性スパッタのシミュレーション2010

    • 著者名/発表者名
      井上泰志
    • 学会等名
      日本真空協会SP部会第7回技術交流会
    • 発表場所
      機械振興会館(東京都)
    • 年月日
      2010-12-02
  • [学会発表] Degradation of Microstructured InN Films During Adsorption-induced Electrochromism2010

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Inoue, Osamu Takai
    • 学会等名
      The 1st Korea-Japan Symposium on Surface Technology
    • 発表場所
      Songdo Park Hotel, Inchon, (Korea)(Invited)
    • 年月日
      2010-11-26
  • [学会発表] 反応性プラズマ環境下の斜め堆積法による微細構造化薄膜の作製2010

    • 著者名/発表者名
      井上泰志, 高井治
    • 学会等名
      第54回日本学術会議材料工学連合講演会
    • 発表場所
      ハートピア京都(京都府)
    • 年月日
      2010-10-26
  • [学会発表] 反応性プラズマプロセスにおけるボトムアップ式微細構造形成技術2010

    • 著者名/発表者名
      井上泰志
    • 学会等名
      日本真空協会産業部会2010年度10月例会
    • 発表場所
      機械振興会館(東京都)(招待講演)
    • 年月日
      2010-10-21
  • [学会発表] Adsorbate-induced Electrochromism of Sputter-deposited ITO Films2010

    • 著者名/発表者名
      Yasushi Inoue, Osamu Takai
    • 学会等名
      10th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology
    • 発表場所
      Lotte Hotel Jeju, Jeju, (Korea)(Invited)
    • 年月日
      2010-07-06
  • [学会発表] 高速な光透過率変化特性を有する薄膜材料2010

    • 著者名/発表者名
      井上泰志
    • 学会等名
      トライボコーティング技術研究会平成22年度第1回研究会
    • 発表場所
      東京都立産業技術研究センター(東京都)(招待講演)
    • 年月日
      2010-06-04

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公開日: 2012-07-19  

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