研究課題
基盤研究(B)
酸素欠陥の電界移動により金属電極と遷移金属酸化物の界面で発現する抵抗スイッチング現象について、Pt/Nb-doped SrTiO_3 素子における抵抗スイッチング特性の素子面積依存性の実験から、酸素欠陥の電界移動現象は接合の端部で発現していることを明らかにした。強相関酸化物(Nd,Sm)NiO_3 をチャンネルにもちいた電界効果素子において、ゲート電圧印加によりチャンネル抵抗が 5 桁程度変化し、ゲート電圧をゼロに戻しても抵抗変化が保持される不揮発な抵抗変化が発現することを見出した。
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