研究課題
基盤研究(C)
液晶電気対流で生じる様々な散逸構造における外部ノイズ応答性を調べた.その構造の固有発生メカニズムによって,各々の発生閾値電圧や構造特性長のノイズ応答性が異なることが分かった.特にノイズの特性(カラー及びホワイトノイズ)によってその応答性は著しく変化することが明らかになった.さらに,高周波数領域で現れる構造においてその特性長のノイズ依存性が明らかになり,電気対流を利用した高分子微細加工への可能性を示した.
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