研究課題
基盤研究(C)
半導体集積回路微細加工用の磁界下環状放電プラズマの計算機解析を行った。環状放電部から伸びる分界線(磁力線の流れが変わる境界)沿いに高エネルギー電子が輸送され、ガスを分解して化学活性種を生成することを解明した。半導体基板上では分界線の到達点に多く化学活性種が入射することを再現し、過去の実験結果を説明した。磁界を変化させ分界線を動かすことで基板上の広い面積を均一に表面処理する技法を提案した。
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