| 研究課題/領域番号 |
22540510
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマ科学
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| 研究機関 | 佐世保工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
須田 義昭 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 教授 (20124141)
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| 連携研究者 |
川崎 仁晴 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 教授 (10253494)
大島 多美子 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (00370049)
柳生 義人 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (40435483)
重松 利信 佐世保工業高等専門学校, 電子制御工学科, 教授 (10390535)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| キーワード | パルスレーザ堆積 / 有機EL / 極低温プロセス / 粉体ターゲット |
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| 研究概要 |
本研究では、パルスレーザ堆積(PLD)法を用いて、フレキシブル基板上に、高分子型の有機EL薄膜を作製することで有機ELディスプレイを作製する。このとき、モノマー有機材料(粉体)を圧縮などで固化した高密度のAlq3ターゲットを利用し、光熱分解過程を利用することにより先駆体を必要とせず直接基板上へ高分子型有機EL薄膜を作製することを試みる。これによって、作業プロセスの簡略化,膜質制御や高品質化を試みる。液体窒素を用いてターゲットを77Kに冷却し、その状態でNd:YAGレーザ(532nm)を用いたPLD法によりAlq3薄膜を作製した。Alq3薄膜は0.5J/cm2以上のレーザフルエンスで作製できた。FT-IR分析により、堆積膜はAlq3ターゲットと同じ波数の光を吸収していた。UV-Vis分析により、堆積膜は波長400nm付近で透過率が減少し、Alq3の特有の吸収がみられた。このことは作製薄膜が、構造的にも光学的にも有機ELとして動作することを示唆している。
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