| 研究課題/領域番号 |
22550130
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能物質化学
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| 研究機関 | 山口東京理科大学 |
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研究代表者 |
井口 眞 山口東京理科大学, 工学部, 教授 (80291821)
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| 研究協力者 |
大嶋 修平 山口東京理科大学, 大学院修士課程
井上 健 山口東京理科大学, 大学院修士・博士課程
八尋 弘志 山口東京理科大学, 大学院修士課程
臼井 一貴 山口東京理科大学, 基礎工学部
住吉 真 山口東京理科大学, 工学部
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| キーワード | ずれ応力 / 高圧実験 / フォトクロミズム / メカノクロミズム / 赤外ラマンスペクトル / スピロピラン / ジアリールエテン / アゾベンゼン |
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| 研究概要 |
光による色の変化を示すフォトクロミック結晶の光応答性をずれ応力(シェアストレス)によって制御する新たな方法-シェアクロミズム-を創成することを目的とし、分光測定から分子の構造を調べた。ニトロスピロピランの開・閉環型の光異性化は、ずれ応力によって抑制され、光応答性は分子の形・アルキル鎖長に依存した。ジアリールエテンPFCPの光異性化が応力と光の調節によって制御される可能性を見出した。また、アゾベンゼンDN-azoの応力による構造変化は光による変化に類似することが示唆された。
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