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2012 年度 研究成果報告書

動的スケーリング理論を用いた電気めっき薄膜の内部応力形成機構に関する研究

研究課題

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研究課題/領域番号 22560025
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 薄膜・表面界面物性
研究機関琉球大学

研究代表者

斉藤 正敏  琉球大学, 工学部, 教授 (00284951)

研究期間 (年度) 2010 – 2012
キーワード内部応力 / 電析薄膜 / 動的スケーリング
研究概要

相転移を記述する動的スケーリング理論の枠組みでパルス電析及び電析に用いる添加物の効果を内部応力について統一的に記述するのが課題である。パルス電析において電流を流さない時間の作用について内部応力は、薄膜表面上の原子運動の緩和過程として記述できること、添加物が薄膜成長を阻害する作用をするquenched noiseとして扱うとスケーリングパラメーターが添加物濃度に依存すること、濃度依存しない及び依存する応力項から記述できることを明らかにした。更にその場観察による内部応力測定により、応力が生じない潜伏期間の後、振動しながら一定値近づく振る舞いをすることが見い出された。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2012 2011

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Thermal roughening transition of a dissolved nickel surface2011

    • 著者名/発表者名
      M. Saitou
    • 雑誌名

      J. Phys. D: Appl. Phys

      巻: Vo.44 ページ: 455302-455306

    • DOI

      DOI:10.1088/0022-3727/44/45/455302

    • 査読あり
  • [学会発表] Scaling Behavior of Internal Stress in Gold Thin Films2012

    • 著者名/発表者名
      M. Machida, M. Saito
    • 学会等名
      63th meeting of International Electrochemical Society in Prague
    • 発表場所
      Prague
    • 年月日
      20120000
  • [学会発表] Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique2012

    • 著者名/発表者名
      T. Nishimura, M. Saitou
    • 学会等名
      63th meeting of International Electrochemical Society in Prague
    • 発表場所
      Prague
    • 年月日
      20120000
  • [学会発表] Internal StressDeviated from a Scaling Law Owing to an Additive Agent2012

    • 著者名/発表者名
      T. Oshiro, M. Saitou
    • 学会等名
      63th meeting of International Electrochemical Society in Prague
    • 発表場所
      Prague
    • 年月日
      20120000

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公開日: 2014-08-29   更新日: 2015-10-20  

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