in-situ ドメインコントロールによる強誘電体物性の制御

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 22560030
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 薄膜・表面界面物性
• 研究機関: 防衛大学校
• 研究代表者: 西田 謙 防衛大学校, 電気情報学群, 准教授 (40299384)
• 研究分担者: 舟窪 浩 東京工業大学, 総合理工学研究科, 教授 (90219080)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2012
• キーワード: 薄膜 / in-situ モニタリング

研究概要

in-situ(その場観察)ラマン分光-有機金属気相成長複合装置を用いて強誘電体チタン酸鉛膜のドメイン構造生成メカニズムの解明とその構造制御を行った。ドメイン構造は、製膜直後の降温過程における応力緩和により形成されることが明らかになった。また、応力緩和過程を制御することによりドメイン配向度の制御に成功した。

研究成果

• [雑誌論文] Rapid and high sensitive structure evaluation of ferroelectric films using micro-Raman spectroscopy: In-situ observation of stress accumulation and release in PbTiO3 films during first cooling process (2011)
  • 著者名/発表者名: M. Nishide, M. Matsuoka, T. Tai, T. Katoda, H. Funakubo, K. Nishida, T. Yamamoto
  • 雑誌名: Mat. Sci. and Eng. 巻: 18 ページ: 092002-1 - 092002-4
  • DOI: DOI:10.1088/1757-899X/18/9/092002
  • 査読あり
• [学会発表] 様々な降温条件におけるPbTiO_3 膜中のドメイン形成のその場観察 (2012)
  • 著者名/発表者名: 松岡 将史,西出 正道,田井 丈嗣,金 鎭雄,島 宏美,河東田 隆,舟窪 浩,西田 謙,山本 孝
  • 学会等名: 第73回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 松山大学文京キャンパス
  • 年月日: 20120911-14
• [学会発表] In-situ observation at the various conditions of first cooling process after PbTiO3 film CVD deposition (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Matsuoka, M. Nishide, K. Nishida, H. Shima, T. Tai, Kim J. W. , H. Funakubo, T. Yamamoto, and T. Katoda
  • 学会等名: International Symposium on Integrated Functionalities (ISIF) 201
  • 発表場所: The Hong Kong Polytechnic University, Hong Kong, China
  • 年月日: 20120618-21