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2012 年度 実績報告書

側面光照射方式カラーフォトセンサに関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 22560053
研究機関九州工業大学

研究代表者

有吉 哲也  九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 助教 (60432738)

研究分担者 有馬 裕  九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 教授 (10325582)
馬場 昭好  九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 准教授 (80304872)
研究期間 (年度) 2010-04-01 – 2013-03-31
キーワードイメージセンサ / 側面光照射 / カラー撮影 / MEMS / カラーフィルタ無し
研究概要

従来の撮像素子はシリコン半導体から作製されたCCD及びCMOS撮像素子が主流であり、可視光から近赤外線の範囲の光(波長範囲:400nm~1100nm)を検知することができる。シリコン半導体を用いた撮像素子そのものには色の分光能力は無い。そのため、カラー撮影するために、別途カラーフィルタを装着したBayer方式あるいは特別な製造プロセスを使って作製したカラー分離フォトダイオード方式がある。本研究では、別途カラーフィルタが不要で、通常のCMOS製造プロセスで作製でき、各色信号を容易に分離できる撮像素子を提案する。具体的には、光をシリコン基板の側面から入射させる方式で、光を検知するPN接合領域が光の入射方向に沿って複数形成された画素構造を有する側面照射型カラー撮像素子を提案する。
撮像素子のP型シリコン基板の表面上に、光の入射方向側から順番に、青色光(B)検出用N型シリコン領域、緑色光(G)検出用N型シリコン領域、赤色光(R)検出用N型シリコン領域、及び近赤外光(IR)検出用N型シリコン領域を形成する。これにより、シリコンに対する侵入長がそれぞれ異なる青、緑、赤及び近赤外光の各光を検出するPN接合部が光の入射方向に沿って形成される。試作したテストデバイスを用いて可視光~近赤外光に対する分光特性を評価し、提案した側面照射型のカラー撮像素子の有効性を確認した。分光特性について、B、G、R、IRにおけるピーク波長はそれぞれ480nm、650nm、775nm、925nmであり、緑と赤に関しては分光特性が長波長側へシフトする結果が得られた。そこで、設計ルールを犯すことなく各光検出領域を短くした新たな構造の画素を提案した。その結果、四色を分離することができ、B、G、R、IRにおけるピーク波長はそれぞれ450nm、525nm、625nm、875nmと、実際の色範囲内に収めることができた。

現在までの達成度 (区分)
理由

24年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

24年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (3件)

すべて 2013 2012

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (2件)

  • [雑誌論文] Side-Illuminated Color Photosensor2013

    • 著者名/発表者名
      T.Ariyoshi,A.Baba,Y.Arima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 52(2013) ページ: 04CE10

    • DOI

      Doi:10.7567/JJAP.52.04CE10

    • 査読あり
  • [学会発表] 近赤外センサの高感度化と色フィルタ無しでのカラー撮像2012

    • 著者名/発表者名
      有吉哲也
    • 学会等名
      九州工業大学 新技術説明会
    • 発表場所
      JST東京別館ホール(東京・市ヶ谷)
    • 年月日
      20121207-20121207
  • [学会発表] Side-Illuminated Color Photo Sensor2012

    • 著者名/発表者名
      T.Ariyoshi
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Device and Materials
    • 発表場所
      京都国際会館(京都市)
    • 年月日
      20120926-20120926

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公開日: 2014-07-24  

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