2012 年度研究成果報告書

超平滑化におけるメカノケミカル反応の第1原理電子状態解析と加工技術開発への適応

研究課題

研究課題/領域番号	22560103
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	補助金
応募区分	一般
研究分野	生産工学・加工学
研究機関	埼玉大学
研究代表者	澁谷秀雄埼玉大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (80303709)
研究期間 (年度)	2010 – 2012
キーワード	超平滑化 / メカノケミカル反応 / 第1原理計算 / 電子状態 / 研磨
研究概要	第一原理計算を用いた砥粒-加工物接触点近部の電子状態解析を行った.一般的に表面に付着した水酸基が加工の進展に寄与しているとされるシリカ粒子の場合,シリカ粒子を単結晶シリコン表面に接近させていっても単結晶シリコン内部の電子状態に大きな変化は見られなかった.一方,固相反応を生じるを考えられている酸化バリウムの場合,単結晶シリコンの最表面と2層目のSi原子間で電子密度の減少がみられた.

[学会発表] 2012年度精密工学会秋季大会学術講演2012
- 発表場所
  (九州工業大学)F16
- 年月日
  20120914-16(20120914)