研究課題
基盤研究(C)
単分子層の液体潤滑膜(分子潤滑膜)を介した相対運動の摩擦特性を評価するために,ガスクラスタイオンビーム(GCIB:gas cluster ion beam)加工を用いて,慴動面の平均粗さを分子潤滑膜厚さ以下(sub-nm)まで超平滑化するとともに,摩擦励起振動の発生を抑圧できる安定性の高い慴動子アセンブリを開発した.さらに,磁気ディスク上に塗布されたナノ潤滑膜の摩擦実験を行い,新開発の慴動子アセンブリの有効性を確認した.
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トライボロジスト
巻: Vol.57,No.2 ページ: 116-122
Advances in Tribology
巻: Vol. 2012
doi :10. 1155/2012/923818
Applied Surface Science
巻: (to be published)
http://www.nisri.jp/dor/report/index.html