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2010 年度 実績報告書

MEIS-TOF-ERDAを用いた次世代MOSプロセス極浅接合評価技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 22560295
研究機関大阪大学

研究代表者

阿保 智  大阪大学, 極限量子科学研究センター, 助教 (60379310)

研究分担者 高井 幹夫  大阪大学, 極限量子科学研究センター, 教授 (90142306)
若家 冨士男  大阪大学, 極限量子科学研究センター, 准教授 (60240454)
キーワードイオンプローブ / ERDA(弾性反跳粒子計測法) / TOF(飛行時間計測) / 低エネルギーイオン注入 / TEA(トロイダル静電アナライザ) / SSRM(走査型拡がり抵抗顕微鏡)
研究概要

平成22年度には丸最適な反跳角でのERDA(弾性反跳粒子計測法)シグナルの取得および、TOF(飛行時間)計測手法の確立を行った。また、平行して極浅不純物注入試料のSSRM(走査型拡がり抵抗顕微鏡)計測を行った。
1. TEA(トロイダル静電アナライザ)設置角度の最適化(反跳角の最適化)
100keVのアルゴンイオンを用いてシリコン中の極浅注入不純物の計測をめざしたが、アルゴンイオンによりスパッタされるシリコンイオンの収量が大きく、エネルギー及び飛行時間分離が困難となったため、プローブイオンを窒素イオンに変更しTEA設置角度の最適化を行った。散乱角を65度とした場合に、個々のイオンの飛行時間差が大きく、また、散乱時のエネルギー差も大きくなった。
2. TOF計測系の構築
本研究でのTOF計測には、パルサーを用いたビームチョッピング法を用いている。スタートシグナルにはパルサーからのトリガシグナルを、ストップシグナルにはTEAからの出力を用いた。散乱角65度とし、TEAでエネルギースキャンを行いながら、100keVの窒素イオンでTOF-ERDA計測を行ったところ、B^+,2keV,1.5×10^<16>/cm^2注入試料では、B^+,B^<2+>,Si^+のTOF-ERDAシグナルを得た。また、未注入Si基板試料のTOF-ERDA計測では、Si^+とH^+のTOF-ERDAシグナルを得た。以上により、TOF計測系の構築を完了した。
3. 極浅不純物注入試料のSSRM計測
MEIS-TOF-ERDA計測結果と比較のため、低エネルギーBおよびAs注入と短時間アニール処理を行った試料のSSRM計測を行った。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2010

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] Local Resistance Profiling of Ultra Shallow Junction Annealed with Combination of Spike Lamp and Laser Annealing Processes using Scanning Spreading Resistance Microscope2010

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Abo, Kazuhisa Nishikawa, Naoya Ushigome, Fujio Wakaya, Toshiaki Iwamatsu, Hidekazu Oda, Mikio Takai
    • 雑誌名

      Proceedings of 18th International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2010)

      ページ: 229-232

    • 査読あり
  • [学会発表] SSRMを用いたスパイクアニールとレーザアニールの組み合わせによる不純物活性化の比較2010

    • 著者名/発表者名
      牛込直弥, 西川和久, 阿保智, 若家冨士勇, 岩松俊明, 尾田秀一, 高井幹夫
    • 学会等名
      第71回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2010-09-16
  • [学会発表] TEAを用いたTOF-ERDAによる極浅原子分析法の開発研究2010

    • 著者名/発表者名
      堀内英完, 阿保智, 若家冨士男, 高井幹夫
    • 学会等名
      第71回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2010-09-15
  • [学会発表] Local Resistance Profiling of Ultra Shallow Junction Annealed with Combination of Spike Lamp and Laser Annealing Processes using Scanning Spreading Resistance Microscope2010

    • 著者名/発表者名
      Satoshi Abo, Kazuhisa Nishikawa, Naoya Ushigome, Fujio Wakaya, Toshiaki Iwamatsu, Hidekazu Oda, Mikio Takai
    • 学会等名
      18th International Conference on Ion Implantation Technology (IIT 2010)
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      2010-06-07

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公開日: 2012-07-19  

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