• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2010 年度 実績報告書

スピントランジスタ構造へのハーフメタルグラニュラーの適用の試み

研究課題

研究課題/領域番号 22560308
研究機関大同大学

研究代表者

神保 睦子  大同大学, 工学部, 教授 (00115677)

キーワードスピントランジスタ / グラニュラー膜 / ハーフメタル / トンネル伝導 / スピンエレクトロニクス
研究概要

スピン分極率が100%と予測されるハーフメタルの第1候補として,CoFeAlSiホイスラー合金を,絶縁材料としてはAlOxを取り上げ,グラニュラー膜を作製しそのTMR特性を評価した。作製に用いたのは現有の多元スパッタ装置で到達真空度は4x10^<-9>Torrである。また,特性を大きく左右するチャンバー内の残留ガスの影響を調べるために,今年度購入した質量分析計を取り付けたが,残留ガスの影響に関してはまだ検討を行なっていない。
作製した試料は室温でMR比を測定したところ,約18%のMR比を得ることができた。従来,金属-AlOグラニュラー膜で得られたMR比はせいぜい10%程度である。今回得られた18%のMR比は従来の値を大きく超えており,これはCoFeAlSiホイスラー合金の高いスピン分極率を反映していると考えられる。そこで,大きなMR比と小さなMR比しか得られない試料の構造をX線回折装置を用いて検討したところ,大きなMR比の得られた試料では,ハーフメタル性を特徴づけるL2_1やB2構造を反映する回折角度のところに強度は小さいがブロードなピークが存在することが分かった。
さらに,この構造を得るためには特定のガラス基板を使わなければならず,ガラス基板の表面状態に強く依存していることが分かった。そこで,来年度はガラス基板の表面状態を調べ,スピントランジスタ構造で用いるためのSi基板でも再現よく大きなMR比が得られる条件を明確にしようと考えている。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2010

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (3件)

  • [雑誌論文] CoFeAlSi合金を用いたグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果2010

    • 著者名/発表者名
      佐藤和宣, 藤原裕司, 加藤剛志, 神保睦子, 小林正
    • 雑誌名

      電気学会論文誌A

      巻: 130, No.7 ページ: 626-630

    • 査読あり
  • [学会発表] CoFeAlSi-Al203グラニュラー薄膜の磁気抵抗特性2010

    • 著者名/発表者名
      近藤孔明, 地濃拓郎, 藤原裕司, 神保睦子
    • 学会等名
      第34回日本磁気学会学術講演会
    • 発表場所
      筑波
    • 年月日
      20100900
  • [学会発表] Magnetoresistance of Co_2FeAi_<0.5>Si_<0.5>-MgF_2 granular films2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Fujiwara, S.Ozaki, Y.Urakawa, K.Sato, M.Kondo, M.Jimbo, T.Kato, T.Kobayashi
    • 学会等名
      The 2^<nd> Int.Symposium on Advanced magnetic Materials and Applications (ISAMMA 2010)
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      20100700
  • [学会発表] Magnetoresistance and electronic of granular films with MgO or MgF_2 matrices2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Fujiwara, H.Matsuda, K.Sato, M.Jimbo, T.Kobayashi
    • 学会等名
      The 2^<nd> Int.Symposium on Advanced magnetic Materials and Applications (ISAMMA 2010)
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      20100700

URL: 

公開日: 2012-07-19  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi