スピントランジスタ構造へのハーフメタルグラニュラーの適用の試み

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 22560308
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 電子・電気材料工学
• 研究機関: 大同大学
• 研究代表者: 神保 睦子 大同大学, 工学部, 教授 (00115677)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2012
• キーワード: 電気・電子材料(半導体) / 誘電体 / 磁性体 / 超誘電体 / 有機物 / 絶縁体 / 超伝導体

研究概要

ハーフメタルの第1候補としてCoFeAlSiホイスラー合金を,絶縁材料としてはAlOxを取り上げ,グラニュラー膜を作製し,そのTMR特性を評価した。その結果,室温で約18%のグラニュラー膜としては世界最大のMR比を得ることができ,これはCoFeAlSiホイスラー合金の高いスピン分極率を反映しているためであることが示唆された。さらに,上記の結果は,ハーフメタルをグラニュラー膜に使用できることを初めて示したものである。

研究成果

• [雑誌論文] Large TunnelMagnetoresistance of Full-Heusler CoFeAlSiAlloy Granular Films (2011)
  • 著者名/発表者名: Michiaki Kondo, Takuro Chino, YujiFujiwara, and Mutsuko Jimbo
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 50 ページ: 123001-1 - 123001-3
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.50.123001
  • 査読あり
• [雑誌論文] Magnetoresistance and electronic structure of granular films withMgO or MgF2 matrices (2011)
  • 著者名/発表者名: Y. Fujiwara, H. Matsuda, K. Sato, M. Jimbo, T. Kobayashi
  • 雑誌名: Journal of Physics: Conference Series 巻: 266
  • URL: http://iopscience.iop.org/1742-6596/266/1
  • 査読あり
• [雑誌論文] CoFeAlSi合金を用いたグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果 (2010)
  • 著者名/発表者名: 佐藤和宣,藤原裕司,加藤剛志,神保睦子,小林正
  • 雑誌名: 電気学会論文誌A 巻: 130 ページ: 626-630
  • URL: http://www2.iee.or.jp/ver2/honbu/27-publication/index101.html
  • 査読あり
• [学会発表] Tunneling magnetoresistance effect and structurof granular films using CoFeAlSi alloy (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Kondo, T. Chino, M. Hattori, Y. Urakawa, Y. Fujiwara, T. Kato, M. Jimbo
  • 学会等名: International Conference of the Asian Union ofMagnetics Societies
  • 発表場所: 奈良県新公会堂
  • 年月日: 2012-10-02
• [学会発表] Co2FeAl0.5Si0.5-MgF2グラニュラー薄膜の構造とトンネル磁気抵抗効果 (2011)
  • 著者名/発表者名: 浦川依久,尾崎正太郎,藤原裕司,小原直人,前田浩二,加藤剛志,神保睦子,小林正
  • 学会等名: 第35回日本磁気学会学術講演会
  • 発表場所: 新潟コンベンションセンター
  • 年月日: 2011-09-27
• [学会発表] Tunnel Magnetoresistance of CoFeAlSi-AlO Granular Films (2011)
  • 著者名/発表者名: M.Kondo, T.Chino, Y.Fujiwara, M.Jimbo
  • 学会等名: Int. Magnetics Conference
  • 発表場所: Taipei Int. Convention Center,Taiwan
  • 年月日: 2011-04-26
• [学会発表] Magnetoresistance of Co2FeAl0.5Si0.5-MgF2granular films (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Fujiwara, S.Ozaki, Y.Urakawa, K.Sato, M.Kondo, M.Jimbo, T.Kato, T.Kobayashi
  • 学会等名: The 2nd Int.Symposium on Advanced magnetic Materials and Applications (ISAMMA 2010)
  • 発表場所: 仙台国際センター
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] Magnetoresistance and electronic of granular films with MgO or MgF2 matrices (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Fujiwara, H.Matsuda, K.Sato, M.Jimbo, T.Kobayashi
  • 学会等名: The 2nd Int.Symposium on Advanced magnetic Materials and Applications(ISAMMA 2010)
  • 年月日: 20100000
• [学会発表] CoFeAlSi-Al2O3グラニュラー薄膜の磁気抵抗特性 (2010)
  • 著者名/発表者名: 近藤孔明,地濃拓郎,藤原裕司,神保睦子
  • 学会等名: 第34回日本磁気学会学術講演会
  • 発表場所: つくば国際会議場
  • 年月日: 2010-09-06