研究課題
基盤研究(C)
AlGaN/GaNヘテロ構造のGaNバッファ層のMOCVD結晶成長温度が低い程(1120~1170℃)、炭素取り込み量が多くなり、伝導帯下2.07,2.80,3.23eVに欠陥準位が顕在化する傾向を示す。これらの欠陥準位はGa空孔,Ga空孔-炭素,炭素に帰属するものと思われる。また、2.80eVと3.23eVの欠陥準位は2次元電子ガスのキャリアトラップとして働くことがわかった。
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http://www.chubu.ac.jp/about/faculty/profile/18fda985f369f45f4e48e0e57ab46fa441142616.html