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2011 年度 実績報告書

軟エックス線分光によるプロトン導電体の伝導領域における電子構造と不純物濃度

研究課題

研究課題/領域番号 22560670
研究機関東京理科大学

研究代表者

樋口 透  東京理科大学, 理学部・応用物理学科, 講師 (80328559)

キーワード軟エックス線発光分光 / プロトン導電体 / 電子構造 / 不純物濃度 / 酸素欠損 / 価電子帯 / 混成軌道 / 結合距離
研究概要

23年度は、Y-doped BaCeO3薄膜のプロトン伝導性の評価と軟X線分光による中高温域での電子構造の測定を行った。
スパッタ法で作製した膜は、200~500℃で0.3eV程度の低い活性化エネルギーを持つプロトン伝導性が確認された。面内方向のプロトン伝導性の評価では、バルクセラミックスに匹敵する伝導度を示した。垂直方向では、プロトン伝導性を示すものの、約90%の粉界抵抗を持つことから、プロトン伝導性が減少する要因となっていることを明らかにした。
軟X線分光の測定において、CeサイトにYイオンが置換されていることを確認した。Yイオンを置換する前は、Ceは3価と4価の混合原子価状態を持つが、Y置換によりCeは安定な4価の状態になっていることが明らかになった。酸素1s領域の吸収スペクトルから、酸素雰囲気中での熱処理に伴う酸素量の変化が現れ、200℃までの温度での酸素量の変化も見られた。これは、結晶内でプロトンが移動する際にO-H結合を繰り返していることを示している。また、光電子分光のよる価電子帯付近の電子構造測定では、フェルミ準位は価電子帯側に位置し、プロトンの導入に伴いフェルミ準位が変化する様子が観測された。価電子帯トップとフェルミ準位のエネルギー差は、伝導度のアレニウスプロットから得られる活性化エネルギーと一致していることを明らかにした。
以上の結果は、プロトンが伝導する温度域において、不純物濃度の変化を示す間接的な証拠であると考えられる。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

地震の影響により、6月までは測定場所である高エネ研が使用出来なかった為、研究開始が7月からとなったが、200℃までの電子構造の測定が可能となり。不純物濃度や詳細な電子構造を明らかにできた。

今後の研究の推進方策

今後は薄膜を中心に取扱い、400℃までの電子構造測定を行う。現時点では十分なビームタイムを確保しており、時間をかけて。慎重に測定を行えば、研究に支障は出ない。発光分光器で支障が出るようであれば、高分解能光電子分光の測定を行う。

  • 研究成果

    (23件)

すべて 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (16件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Electronic Structure of BiFel-xMxO3(M=Mn and Co) Thin Films by soft-x-Ray Spectroscopy2012

    • 著者名/発表者名
      T.Higuchi, H.Nagashima, U.Miura, Y.Inoue, Yi-Sheng Liu, Per-Anders Glans
    • 雑誌名

      Trans.Mater.Res.Soc.Jpn

      巻: 37

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structura and Electrical Puroperties of BaCe0.90Y0.1003-d Thin Film on A1203 Substrate2012

    • 著者名/発表者名
      T.Owaku, Y.Iida, H.Fukawa, T.Higuchi
    • 雑誌名

      Trans.Mater.Res.Soc.Jpn

      巻: 37

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural and Optical Properties of SrTil-xScxO3 Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Teppei Okumura, Yusuke Kobayashi, Fuyuki Ihara, Tohru Higuchi
    • 雑誌名

      Trans.mater.Res.Soc.Jpn

      巻: 37

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Sc doping for TiO2 thin film prepared by RF magnetron sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      T.Inoue, K.Tomiyama, T.Owaku, T.Ymashita, T.Higuchi
    • 雑誌名

      Trans.mater.Res.Soc.Jpn

      巻: 37

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of Sc-doped TiO2 Thin Film by RF Magnetron Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      K.Tomiyama, Y.Kobayashi, M.Tsuda, T.Higuchi
    • 雑誌名

      Jpn.J.App.Phys

      巻: 50 ページ: 65502-1-4

    • DOI

      10.1143/JJAP.50.065502

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electronic Structure of KH2PO4 Single Crystal Studied by soft-X-Ray Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      T.Nishina, T.Higuchi, E.Magome, Olade Velasco, Long Chen, Li Yang, J Guo, M.Fukunaga, M.Komukae
    • 雑誌名

      Ferroelectries

      巻: 416 ページ: 90-94

    • DOI

      10.1080/00150193.2011.577712

    • 査読あり
  • [学会発表] 均質溶液からのオキシアパタイト型ランタンゲルマネートの生成過程の解析2012

    • 著者名/発表者名
      北嶋将太、樋口透、小林清、目義雄
    • 学会等名
      日本セラミックス学会
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      20120319-20120321
  • [学会発表] Sc-doped SrTiO3スパッタ薄膜の表面構造と電気特性2012

    • 著者名/発表者名
      小林祐輔, 奥村哲平, 富山和哉, 樋口透
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 年月日
      20120315-20120317
  • [学会発表] Sc-doped TiO2スパッタ薄膜の光触媒活性における膜厚効果2012

    • 著者名/発表者名
      井上智弘, 山下智之, 富山和哉, 樋口透
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 年月日
      20120315-20120317
  • [学会発表] 光触媒活性を有するTiO2/Al2O3薄膜のX線非弾性散乱2012

    • 著者名/発表者名
      樋口透, 南川真樹, 冨山和哉, 井上智宏, Y.Liu, J.Guo
    • 学会等名
      放射光学会
    • 発表場所
      鳥栖市民文化会館
    • 年月日
      20120106-20120109
  • [学会発表] 酸素ラジカルを用いて作製したCeO2薄膜の電子状態2012

    • 著者名/発表者名
      樋口透, 南川真樹, 冨山和哉, 井上智宏, Y.Liu, J.Guo
    • 学会等名
      放射光学会
    • 発表場所
      鳥栖市民文化会館
    • 年月日
      20120106-20120109
  • [学会発表] 均質溶液からのオキシアパタイト型ランタンゲルマネートの生成過程の解析2012

    • 著者名/発表者名
      北嶋将太、樋口透、小林清、目義雄
    • 学会等名
      電気化学会固体化学の新しい指針を探る研究会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 年月日
      2012-03-08
  • [学会発表] Electronic Structure of BiFe1-xMxO3 (M=Mn and Co) Films by Soft-X-Ray Spectroscopy2011

    • 著者名/発表者名
      T.Higuchi, H.Naganuma, J.Miura, Y.Inoue, S.Okamura, Y.Liu, P.A.Glans, J.-H Guo
    • 学会等名
      日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜開港記念館(横浜)
    • 年月日
      20111219-20111221
  • [学会発表] Effect of Sc doping for TiO2 thin films prepared by RF Magnetron Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      T.Inoue, K.Tomiyama, T.Owaku, T.Yamashita, T.Higuchi
    • 学会等名
      日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜開港記念館(横浜)
    • 年月日
      20111219-20111221
  • [学会発表] Structural and Electrical Properties of BaCe0.9Y0.103-d Thin Film on Al2O3 Substrate2011

    • 著者名/発表者名
      T.Owaku, Y.Iida, H.Fukawa, T.Higuchi
    • 学会等名
      日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜開港記念館(横浜)
    • 年月日
      20111219-20111221
  • [学会発表] Structure and Optical Properties of Deposition for SrTi1-xScxO3 Thin Film by Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      T.Okumura, Y.Kobayashi, F.Ihara, T.Higuchi
    • 学会等名
      日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜開港記念館(横浜)
    • 年月日
      20111219-20111221
  • [学会発表] Electrical Conductivity of TriO2-d Thin film prepared by RF Magnetron Sputtering Using Oxygen Radical2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nakayama, T.Uchida, T.Okumura, T.Higuchi
    • 学会等名
      日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜開港記念館(横浜)
    • 年月日
      20111219-20111221
  • [学会発表] RFマグネトロンスパッタ法により作製したBaCeYO3薄膜の構造・電気伝導性2011

    • 著者名/発表者名
      府川裕行, 大和久智宏, 飯田康貴, 樋口透
    • 学会等名
      固体イオニクス討論会
    • 発表場所
      白兎会館(鳥取市)
    • 年月日
      20111207-20111209
  • [学会発表] RFマグネトロンスパッタ法により作製したCeO2薄膜の電子構造・価数状態2011

    • 著者名/発表者名
      樋口透、青木聖也、Yi-Sheng Liu, Per-Anders Glans, Jinghua Guo
    • 学会等名
      固体イオニクス討論会
    • 年月日
      20111207-09
  • [学会発表] CsH2PO4の軟X線吸収スペクトルの温度依存性2011

    • 著者名/発表者名
      福永正則, 仁科哲也, 樋口透, 馬込栄輔, 小向得優
    • 学会等名
      日本物理学会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      20110921-20110924
  • [学会発表] Sc-doped SrTiO3スパッタ薄膜の構造・電気特性2011

    • 著者名/発表者名
      小林祐輔, 浅沼祥, 冨山和哉, 樋口透
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2011-08-30
  • [学会発表] 酸素ラジカルを用いて作製したTiO2薄膜の酸素欠陥及び膜厚の影響2011

    • 著者名/発表者名
      中山創, 奥村哲平, 大和久智弘, 樋口透
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2011-08-30
  • [備考]

    • URL

      http://www.rs.kagu.sut.ac.jp/~tsuka/index.html

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公開日: 2013-06-26  

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