研究概要 |
多元素同時スパッタリング装置に基板加熱及び基板へのイオン照射機構を取り付けた装置を開発した.本装置を使用することで,基板温度が353Kであっても結晶化したTiNi合金薄膜を得ることが可能となった.ポリイミド箔上にTiNi合金薄膜を付与し,カンチレバー状に加工した素子に0.1Hz周期で電圧を印加したところ,良好な二方向形状回復動作を示した.強磁性形状記憶合金とチタン酸ジルコン酸鉛の積層材も作製し評価したところ,良好な電気磁気効果を示した.したがって,TiNi合金薄膜と高分子圧電材料の機能複合化も実現できるものと考えている.
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