2012 年度研究成果報告書

光化学還元法による全湿式銅回路パターン形成プロセスの開発

研究課題

研究課題/領域番号	22560733
研究種目	基盤研究(C)
配分区分	補助金
応募区分	一般
研究分野	材料加工・処理
研究機関	甲南大学
研究代表者	縄舟秀美甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 教授 (60156007)
研究協力者	赤松謙祐甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 教授 (60322202) 鶴岡孝章甲南大学, フロンティアサイエンス学部, 講師 (20550239) 有村英俊甲南大学, 大学院・自然科学研究科, 博士中道良太甲南大学, 大学院・フロンティアサイエンス研究科, 修士課程・生命化学専攻
研究期間 (年度)	2010 – 2012
キーワード	めっきプロセス / 光触媒
研究概要	ガラス基板上に銅微細回路を形成することを目的として、カルボン酸を電子ドナーとする光化学還元法について検討した。銅イオンの光化学還元法は、紫外光照射部全面で起こるが、それを水で洗浄すると予めガラス基板上に形成した疎水性のn-オクタデシルトリメトキシシランパターン上にのみ銅析出物が残存した。局部分極曲線の測定の結果、本研究の光化学還元法において混成電位理論が成立することが明らかとなった。