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2012 年度 研究成果報告書

半導体排ガスの乾式固定化・再資源化処理技術の開発研究

研究課題

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研究課題/領域番号 22560813
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 リサイクル工学
研究機関名古屋工業大学

研究代表者

安井 晋示  名古屋工業大学, 工学研究科, 准教授 (30371561)

研究期間 (年度) 2010 – 2012
キーワードフッ素 / 再資源化 / PFC / 気固反応 / 排ガス処理
研究概要

過フッ素化合物(PFC)は,半導体産業におけるエッチングやクリーニングエ程において多量に使用されているが,温暖化係数が極めて高いので排出削減が必要である。我々は,半導体産業から排出されるPFCガスからフッ素を回収する新しい乾式ガス処理技術の開発を行った。開発する処理システムは,PFCガスを加熱分解した後の排ガスを2種類の吸着材で吸収除害するものであり,上部の炭酸カルシウム層で分解ガス中のHFガスを吸収して高純度の蛍石として回収する。そして,下部の炭酸水素ナトリウム層で残りのHFとSiF4ガスを吸収除害するものである。本研究では,それぞれの吸着材の気固反応特性を解析した。炭酸カルシウムの気固反応特性では,HFガスの破過特性を解析し,未反応核モデルと固定床反応モデルを用いて反応速度係数を導出した。また,炭酸水素ナトリウムの気固反応特性では,HFガスとSiF4ガスそれぞれに対して吸収容量を調べた。これらの解析結果から,乾式ガス処理システムの最適設計技術を開発した。

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (2件) 学会発表 (3件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Gas-Solid Reaction Properties of Fluorine Compounds and Solid Adsorbents for Off-Gas Treatment from Semiconductor Facility2012

    • 著者名/発表者名
      S. Yasui, T. Sho jo, G. Inoue, K. Koike, A. Takeuchi and Y. Iwasa
    • 雑誌名

      International Journal of Chemical Engineering

      巻: Vol. 2012 ページ: 9

  • [雑誌論文] Dry-type off-gas treatment technology of exhaust gases from the semiconductor industry for fluorine recycling

    • 著者名/発表者名
      S. Yasui, S. Yama j i, T. Shojo, G. Inoue, K. Koike, A. Takeuchi and Y. Iwasa
    • 雑誌名

      Proc. 2011 AIChE Annual Meeting

      ページ: 482a

  • [学会発表] Dry-type off-gas treatment technology of exhaust gases from the semiconductor industry for fluorine recycling2011

    • 著者名/発表者名
      S. Yasui, S. Yama j i, T. Shojo, G. Inoue, K. Koike, A. Takeuchi and Y. Iwasa
    • 学会等名
      2011 AIChE Annual Meeting Paper.482a
    • 発表場所
      Minneapolis
    • 年月日
      20111000
  • [学会発表] ナトリウム系吸収材による半導体排ガスの乾式吸収特性2011

    • 著者名/発表者名
      山路峻平,安井晋示,荘所正,井上吾一,小池国彦,竹内章浩,岩佐慶夫
    • 学会等名
      化学工学会第43回秋季大会,T302
    • 発表場所
      名工大
    • 年月日
      20110900
  • [学会発表] フッ素リサイクルに向けた半導体クリーニングガスの乾式吸収特性2011

    • 著者名/発表者名
      山路峻平,安井晋示,荘所正,井上吾一,小池国彦,竹内章浩
    • 学会等名
      化学工学会第76年会0205
    • 年月日
      20110300
  • [備考]

    • URL

      http://yasui-lab.web.nitech.ac.jp/

  • [産業財産権] 排ガス処理装置及び排ガス処理方法2011

    • 発明者名
      小池国彦,井上吾一,荘所正,竹内章浩,安井晋示
    • 権利者名
      岩谷産業株式会社,中部電力
    • 産業財産権番号
      特願2011-085291
    • 出願年月日
      2011-04-07

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公開日: 2014-08-29  

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