研究課題/領域番号 |
22570044
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研究機関 | 山口大学 |
研究代表者 |
真野 純一 山口大学, 総合科学実験センター, 教授 (50243100)
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研究分担者 |
松井 健二 山口大学, 大学院・医学系研究科, 教授 (90199729)
田中 淨 鳥取大学, 農学部, 教授 (50124350)
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キーワード | 4-オキソ-2-ヘキセナール / 光合成 / 環境ストレス / クロトンアルデヒド |
研究概要 |
環境ストレスによって増大し、光合成を障害する活性アルデヒドの特定をめざし、以下の成果を得た。(1)塩ストレスによって葉で増大する活性カルボニル種。シロイヌナズナに塩ストレスを与えると、葉の細胞障害(クロロフィル蛍光のFv/Fm値低下)が現れる直前にクロトンアルデヒドが特異的に増大することを見いだし、クロトンアルデヒドが葉の障害の原因となっていることが示唆された。(2)4-オキソ-2-ヘキセナール(OHE)の光合成阻害能評価。リノレン酸過酸化物から生じるOHEの光合成への阻害効果を単離葉緑体のCO2光還元活性を指標として評価した。OHEは、単離葉緑体の光合成を強く阻害した。阻害強度は研究代表者がこれまでに評価した活性アルデヒドのなかで最も大きく、最も感受性の高い標的酵素はホスホリブロキナーゼとデヒドロアスコルビン酸レダクターゼであった。(3)葉緑体タンパク質のOHE修飾の検出。OHE修飾したKLHを抗原としてウサギに免疫し、抗OHE修飾タンパク質ポリクローナル抗体を得た。この抗体は、OHEに類似した4-オキソ-2-ノネナール、4-ヒドロキシ-2-ヘキセナールによるタンパク質修飾を認識せず、OHEに対する特異性がきわめて高かった。シロイヌナズナの葉で、非ストレス条件でも本抗体と反応するタンパク質が検出されたことから、恒常的に生成する活性酸素種によって過酸化脂質が生じ、その分解によってOHEが恒常的に生成していることが明らかになった。パラコートによる酸化的ストレスを与えると、葉のタンパク質に対するOHE修飾が増大したことから、葉緑体での酸化的ストレス増大によって葉緑体タンパク質のOHE修飾が増大することが明らかになった。
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