| 研究概要 |
[目的]
本研究は口蓋裂の発生機序を解明するため、口蓋突起の基底膜の消失と口蓋形成との関連を検討した。また、二次口蓋形成に関与し、その変異が口蓋裂が引き起こすとされるHomeobox遺伝子であるHOX遺伝子（HOXA,HOXB,HOXC,HOXDの4つのクラスターを形成している）の口蓋形成への関与を明らかにするために、口蓋裂を発生するEh/Ehマウス口蓋突起におけるHoxc5タンパク質の局在について検討した。
[結果]
口蓋突起癒合時には、①基底膜型プロテオグリカン（パールカン）及びその特異的分解酵素ヘパラナーゼが上皮索基底膜の分解に関与すること、②口蓋突起上皮細胞が分泌するパールカンのへパラン硫酸鎖が、増殖因子を遊離・活性化することにより間葉細胞の分化・増殖を惹起すること、③口蓋突起上皮細胞が分泌するＭＭＰはコラーゲンIV分子を細分して上皮索基底膜を分解することが明らかになった。
HOXA2遺伝子は、①口蓋形成過程において、PCNAと同様に、Hoxc5は口蓋突起の増殖と分化に関与すること、②Hoxc5は口蓋突起間葉系細胞の配置、口蓋突起の水平方向への伸長に関与すること、③口蓋突起癒合期に観察される上皮索、上皮島、上皮トライアングルの消失にHoxc5が関与する可能性と、④Hoxc5が口腔粘膜上皮あるいは鼻腔粘膜上皮それぞれの組織の最終分化を調節すること、および口蓋骨の形成に関与することが明らかになった。
|
