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「Si(OH)4の脱水重合体と脂肪酸塩とが互いに織り込まれるようにして固化した固形物」の大気雰囲気下における250℃程度の加熱処理による結晶性シリコンの形成について検討した。加熱温度をパラメーターとした熱重量分析(TGA)XRD測定および"その場"レーザーラマン分光測定から、シリコン形成は脂肪酸塩の疎水基の長さ、加熱温度(速度)に強く依存し、シリカ(SiO2)は不純物として同?に形成することが明らかとなった。ITOガラス表面に微結晶シリカは形成可能であり、脂肪酸塩の種類および加熱条件により微結晶シリコンのサイズを制御可能であり、連続的な光応答特性を付加させることが可能と期待できる。
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