研究課題
挑戦的萌芽研究
近年,電子デバイスの高密度化および使用環境の高温化にともない, 200℃以上での使用環境に耐えうるCu接合部を300℃以下のプロセス温度で作製する必要がある.本研究では接合界面にSn/ Cu多層薄膜をインサート材として用いることで,接合部に固液共存状態を作り出して接合し,接合部を高融点化合物にすることに成功した.またZnをインサート層中に微量添加することで接合部に形成されるボイドを抑制し,高い信頼性を持つ合金接合部の形成を達成した.
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Journal of Physics
巻: (accepted)
18th Symposium on" Microjoining and Assembly Technology on Electronics"
ページ: 39-42
第20回マイクロエレクトロニクスシンポジウム講演論文集(MES2010)
巻: Vol.20 ページ: 31-34