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2011 年度 実績報告書

スピネル型単結晶トンネルバリアを有する新規強磁性トンネル接合の開拓

研究課題

研究課題/領域番号 22686066
研究機関独立行政法人物質・材料研究機構

研究代表者

介川 裕章  独立行政法人物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, 研究員 (30462518)

キーワードスピントロニクス / 磁性薄膜 / MgAl204 / 強磁性トンネル接合
研究概要

本研究課題は,潮解性がなく,bcc系強磁性金属やホイスラー合金といった合金と格子不整合が小さいという長所を持つ,強磁性トンネル接合(MTJ)用の新規トンネルバリア材料:スピネルMgAl2O4超薄バリアの作製技術開発を通し,巨大なトンネル磁気抵抗(TMR)を得ることを目的としている。本年度は,強磁性電極にbcc構造のFe(001)を用いたFe/MgAl204/Fe構造の作製を通し,エピタキシャルMgAl204バリアの作製法の確立と,MgAl204バリアのもつポテンシャルを明らかにする研究を進展させた。Mg-Al合金ターゲットからスパッタ成膜したMgAl合金(マグナリウム)薄膜をプラズマ酸化する方法に加え,酸素ガスの真空装置への導入による自然酸化法を用いた。この方法によって,応用上重要な,非常に低抵抗なトンネルバリアを達成した。また,Mg-Al組成の調整によって,幅広い組成範囲でMg-Al-O薄膜を立方晶で作製可能であることを示した。これによって,バリア層の格子定数の調整が可能になり,電極との界面の格子不整合をほぼゼロである完全格子整合接合を達成できた。さらに,CoFe電極を用いたCoFe/MgAl204/CoFe構造により室温300%を超える巨大なTMR比を得ることに成功した。特に,この高いTMR比は,MTJ用に広く用いられている材料であるMgOを用いたMTJの値に匹敵しており,MgAl204はMgOに続くコヒーレント効果によるTMR増大を示す「第2のバリア材料」であるといえる。さらに,東北大学との共同研究の結果として,理論計算によって高TMRが実現することを示すことにも成功し,実験,理論の両面からMg-Al-Oバリアの高いポテンシャルを確かめることに成功した。したがって,MgAl204は電極材料の選択性が高く,MTJへの応用だけではなく,新規スピントロニクスデバイスへの展開も期待できる。本年度はさらに高いTMR実現のために,高いスピン分極率を有する強磁性体,Co2FeAlホイスラー合金に関する知見も多く得られ,今後さらに高TMRが実現可能になることが期待できる。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

室温で300%を超える高いTMRを実現することに成功していることに加え,高スピン分極材料であるCo2FeAl薄膜の研究も順調に進んでおり,今後Mg-Al-OバリアとCo2FeAlを用いることでさらに大きなTMRを狙える位置にあるため。

今後の研究の推進方策

ホイスラー合金Co2FeAlなどを用いることによってさらに高いTMRを目指すこと,Mg-Al-O系以外の新規バリア材料を実現することを目指す。

  • 研究成果

    (16件)

すべて 2012 2011

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (9件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Spin Polarimetry and Magnetic Dichroism on a Buried Magnetic Layer Using Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy2012

    • 著者名/発表者名
      G.Stryganyuk, X.Kozina, G.H.Fecher, S.Ouardi, S.Chadov, C.Felser, G.Schonhense, P.Lushchyk, A.Oelsner, P.Bernhard, E.Ikenaga, T.Sugiyama, H.Sukegawa, Z.C.Wen, K.Inomata, K.Kobayashi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 51 ページ: "016602-1"-"016602-4"

    • DOI

      10.1143/JJAP.51.016602

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 59Co NMR experiment as a probe of electron doping in Co2FeAl1-xSix Heusler alloys2012

    • 著者名/発表者名
      M.Wojcik, E.Jedryka, H.Sukegawa, T.Nakatani, K.Inomata
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 85 ページ: "100401(R)-1"-"100401(R)-4"

    • DOI

      10.1103/PhysRevB.85.100401

    • 査読あり
  • [雑誌論文] エピタキシャルFe/MgAl2O4/Fe(001)強磁性トンネル接合における結晶性と伝導特性2011

    • 著者名/発表者名
      H. Sukegawa, H. Xiu, T. Ohkubo, T. Niizeki, S. Kasai, T. Furubayashi S. Mitani, K. Inomata, and K. Hono
    • 雑誌名

      Journal of The Magnetics Society of Japan

      巻: 35巻 ページ: 254-259

    • DOI

      DOI: 10.3379/msjmag.1104R011

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Bi-quadratic interlayer exchange coupling in Co2MnSi/Ag/Co2MnSi pseudo spin-valve2011

    • 著者名/発表者名
      H.S.Goripati, M.Hayashi, T.Furubayashi, T.Taniguchi, H.Sukegawa, Y.K.Takahashi, K.Hono
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 110 ページ: "123914-1"-"123914-7"

    • DOI

      10.1063/1.3671634

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Perpendicular magnetization of Co2FeAl full-Heusler alloy films induced by MgO interface2011

    • 著者名/発表者名
      Zhenchao Wen, Hiroaki Sukegawa, Seiji Mitani, Koichiro Inomata
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 98 ページ: "242507-1"-"242507-3"

    • DOI

      10.1063/1.3600645

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Tunnel magnetoresistance in textured Co2FeAl/MgO/CoFe magnetic tunnel junctions on a Si/SiO2 amorphous substrate2011

    • 著者名/発表者名
      Zhenchao Wen, Hiroaki Sukegawa, Seiji Mitani, Koichiro Inomata
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 98 ページ: "192505-1"-"192505-3"

    • DOI

      10.1063/1.3587640

    • 査読あり
  • [学会発表] フルホイスラー合金Co2FeAl層を有する強磁性トンネル接合におけるスピン注入磁化反転2012

    • 著者名/発表者名
      介川裕章, Z.C.Wen, 近藤浩太, 葛西伸哉, 三谷誠司, 猪俣浩一郎
    • 学会等名
      2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学(東京都)
    • 年月日
      2012-03-17
  • [学会発表] 準安定立方晶Al2O3を用いたエピタキシャル強磁性トンネル接合2012

    • 著者名/発表者名
      介川裕章, 三谷誠司, 新関智彦, 大久保忠勝, 猪俣浩一郎, 宝野和博
    • 学会等名
      2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学(東京都)
    • 年月日
      2012-03-15
  • [学会発表] Perpendicular magnetization of Co2FeAl full-Heusler alloy thin films induced by MgO interface2011

    • 著者名/発表者名
      Zhenchao Wen, Hiroaki Sukegawa, Seiji Mitani, Koichiro Inomata
    • 学会等名
      第35回日本磁気学会学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟)
    • 年月日
      2011-09-27
  • [学会発表] エピタキシャルCoFe/MgAl2O4/CoFe強磁性トンネル接合の高TMR化と低抵抗化2011

    • 著者名/発表者名
      介川裕章, 新関智彦, 三谷誠司, 大久保忠勝, 猪俣浩一郎, 宝野和博
    • 学会等名
      第35回日本磁気学会学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県)
    • 年月日
      2011-09-27
  • [学会発表] MgAl2O4スピネル型バリアを用いた格子整合強磁性トンネル接合の開発2011

    • 著者名/発表者名
      介川裕章
    • 学会等名
      日本磁気学会,第36回スピンエレクトロニクス専門研究会
    • 発表場所
      中央大学駿河台記念館(東京都)(招待講演)
    • 年月日
      2011-08-22
  • [学会発表] Coherent tunneling effect in a MgAl2O4 spinel based magnetic tunnel junction2011

    • 著者名/発表者名
      H.Sukegawa, H.Xiu, T.Ohkubo, T.Niizeki, S.Mitani, K.Inomata, K.Hono
    • 学会等名
      5th International Workshop on Spin Currents
    • 発表場所
      仙台国際センター(宮城県)
    • 年月日
      2011-07-25
  • [学会発表] Improvement of tunnel magnetoresistance ratio in fully epitaxial MgAl2Ox based magnetic tunnel junctions2011

    • 著者名/発表者名
      H.Sukegawa, H.Xiu, T.Ohkubo, T.Niizeki, S.Mitani, K.Inomata, K.Hono
    • 学会等名
      International Magnetics Conference, INTERMAG 2011
    • 発表場所
      Taipei (Taiwan)
    • 年月日
      2011-04-29
  • [学会発表] Significant enhancement of tunnel magnetoresistance by inserting CoFe to the tunneling barrier interface in Co2FeAl/MgO/Co2FeAl magnetic tunneling junctions2011

    • 著者名/発表者名
      Wenhong Wang, Hiroaki Sukegawa, Seiji Mitani, Koichiro Inomata
    • 学会等名
      International Magnetics Conference, INTERMAG 2011
    • 発表場所
      Taipei (Taiwan)
    • 年月日
      2011-04-29
  • [学会発表] Current-induced magnetization switching in Heusler alloy-based devices2011

    • 著者名/発表者名
      Hiroaki Sukegawa, Shinya Kasai, Takao Furubayashi, Seiji Mitani, Koichiro Inomata
    • 学会等名
      International Magnetics Conference, INTERMAG 2011
    • 発表場所
      Taipei (Taiwan)(招待講演)
    • 年月日
      2011-04-29
  • [産業財産権] 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子並びにスピントロニクスデバイス2012

    • 発明者名
      介川裕章, 三谷誠司, 新関智彦, 大久保忠勝, 猪俣浩一郎, 宝野和博, 白井正文, 三浦良雄, 阿部和多加, 村本慎伍
    • 権利者名
      独立行政法人物質・材料研究機構
    • 産業財産権番号
      特願2012-039582
    • 出願年月日
      2012-02-27

URL: 

公開日: 2013-06-26  

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