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我々はSi基板上にFePt相を堆積させる際に小さな花が咲いたようなナノ構造を形成することを見出した。このナノ構造の存在によりFePt薄膜の磁気特性は低下することが明らかとなった。したがって、安定した優れた特性を有するL10FePt薄膜やFe系軟磁性下地層を作製するためにはSi基板上に非常に薄いSiO2層の形成が必要であることが明らかとなった。FePt/FeHfNbYB2層構造の磁気特性の調査の後にビットパターンの作製を試みた。初めに、FeHfNbYBのナノインプリンティングによりパターンの形成を試みた。その結果パターンを形成させることには成功したが、ダイと金属ガラス薄膜の拡散という問題が発生した。そこで次にリソグラフィー法を用いてパターンを形成させた。マイクロメートルサイズのパターン形成にはオプティカルリソグラフィーを用い、ナノメートルサイズのパターン形成には電子ビームリソグラフィーを用いた。ともにリフトオフ技術とArイオンエッチング技術を使用した。リフトオフ技術はドットサイズが100nm以下に到達した際には問題が発生することが明らかとなった。測定により得られたパターンドットの高さは堆積速度から予測される値よりも著しく減少していた。しかし、Arイオンエッチングを用いた場合にはFePt/FeHfNbYBの2層構造のドットパターンの作製が可能であった。電子ビームリソグラフィーを用いて作製できた最小のドットパターンサイズは約20 nmであった。磁気力顕微鏡を使った研究によりFePt/FeHfNbYドットサイズが300nm以上にまで増加した場合にシングルドメインからマルチドメインに変化することが明らかとなった。300nmまでのパターンにおいては微小部X線回折測定によりFePtのL10に起因する（111）面のみであることが明らかとなった。
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