極細かつ高アスペクト比レーザ穴あけの研究

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 22760094
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 千葉大学
• 研究代表者: 比田井 洋史 千葉大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (60313334)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2011
• キーワード: 特殊加工

研究概要

申請者らが見いだした小径かつ深穴あけが可能となる条件を明らかにすることを目的としている.穴内部のビームのエネルギ分布を測定した結果,穴内部のビームプロファイルは深さに関係なく常に同様な傾向となり,そのプロファイルはガウス分布に類似していた.さらにプラズマの挙動を観察した結果,プラズマの発生はレーザ光照射から20ns後までで,その移動速度は20km/s以上だと明らかにした.

研究成果

• [学会発表] レーザ光による高アスペクト比小径穴あけのメカニズムの解明 (2012)
  • 著者名/発表者名: 藤井真人, 比田井洋史, 松坂壮太, 森田昇
  • 学会等名: 2112年度精密工学会春期大会学術講演論文集
  • 年月日: 20120000
• [学会発表] 高アスペクト比穴加工時に発生するレーザプラズマの研究 (2011)
  • 著者名/発表者名: 藤井真人, 比田井洋史, 松坂壮太, 森田昇
  • 学会等名: 2111年度精密工学会秋期大会学術講演論文集
  • 年月日: 20110000
• [備考]
  • URL: http://www.e1.eng.chiba-u.jp/~hidai/
• [産業財産権] スルーホール電極の形成方法 (2010)
  • 発明者名: 中壽賀章, 江南俊夫, 比田井洋史, 伊東翔, 長澤正道, 立川茂
  • 権利者名: 千葉大学
  • 産業財産権番号: 特許、特願2111-217333
  • 出願年月日: 2010-09-28