研究課題
若手研究(B)
シリコンCMOSテクノロジーの微細化に頼らない新たな機能向上方法として,"シリコン・スピントロニクス"が有望である.この技術の創出のためには,シリコンチャネル中への高効率スピン注入/検出/操作手法の確立が不可欠である。そこで本研究課題では,高効率スピン注入源・検出器となる高品質ハーフメタル・フルホイスラー合金のシリコン上への形成技術を創出し,さらにシリコンチャネル中でのスピン挙動の観察に適したデバイス設計を行った。
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Journal of Applied Physics
巻: 109 ページ: 07B768/1-3