研究課題
若手研究(B)
スパッタプロセスは,非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている.本研究では,透明導電膜としてIndium-zinc-oxide(IZO)膜とGallium doped zinc-oxide(GZO)に着目し,プロセスの気相と薄膜表面反応過程の解明を行うことを目指した. IZOスパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い,気相中のラジカル組成と薄膜の組成,抵抗率,キャリヤ密度,移動度などの電気特性との相関を明らかにした.
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Jpn. J, Appl. Phys
巻: (印刷中)
モニタリング電気学会論文誌A
巻: vol.130 ページ: 972-976
http://dx.doi.org/10.1541/ieejfms.130.972