量子ビームによる微細加工用高分子のイオン化ダイナミクスの解明

2011 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 22760669
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 原子力学
• 研究機関: 北海道大学
• 研究代表者: 岡本 一将 北海道大学, 大学院・工学研究院, 助教 (10437353)
• 研究期間 (年度): 2010 – 2011
• キーワード: 放射線 / X線 / 粒子線 / 半導体超微細化 / リソグラフィ / レジスト

研究概要

微細加工用材料であるレジスト内でのイオン化後の微視的電荷ダイナミクスを、極端紫外光(EUV)自由電子レーザー(FEL)や電子線など量子ビームを励起源とする分光法を用い研究を行った。高分子フィルム中の酸発生の量子収率は、EUVFELのエネルギー付与線量率(dose rate)が下がることによって、増加することが示唆された。またパルスラジオリシスにより、ポリ(スチレン-アクリレート)共重合体やポリ(4-ヒドロキシスチレン)の電荷ダイナミクスについて明らかにした。

研究成果

• [雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 50 ページ: 06GD03
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.49.106501
  • 査読あり
• [雑誌論文] Dynamics of radicalcation of poly(styrene acrylate)-based chemically amplified resist for extreme ultraviolet and electron beam lithography (2011)
  • 著者名/発表者名: Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 巻: 50 ページ: 06GD03
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.50.06GD03
  • 査読あり
• [雑誌論文] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Takaki Hatsui, Yasuharu Tajima, Keita Oikawa, Mitsuru Nagasono, Takashi Kameshima, Tadashi Togashi, Kensuke Tono, Makina Yabashi, Hiroaki Kimura, Yasunori Senba, Haruhiko Ohashi, and Takashi Sumiyoshi
  • 雑誌名: Proc. SPIE 巻: 7972 ページ: 797217
  • DOI: DOI:10.1117/12.879358
  • 査読あり
• [雑誌論文] Deprotonation mechanism of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist (2011)
  • 著者名/発表者名: Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
  • 雑誌名: Proc. SPIE 巻: 7972 ページ: 7972IN
  • DOI: DOI:10.1117/12.879362
  • 査読あり
• [学会発表] レジスト高分子の放射線化学 (2012)
  • 著者名/発表者名: 岡本一将、住吉孝
  • 学会等名: 日本化学会第92春季年会
  • 発表場所: 慶応義塾大学
  • 年月日: 2012-03-28
• [学会発表] Acid generation efficiency in resist films after exposure to the 61 nm free-electron laser light (2011)
  • 著者名/発表者名: K. Oikawa, K. Okamoto, T. Kozawa, T. Hatsui, M. Nagasono, T. Kameshima, T. Togashi, K. Tono, M. Yabashi, H. Kimura, Y. Senba, H. Ohash, R. Fujiyoshi and T. Sumiyoshi
  • 学会等名: MNC
  • 発表場所: ANA Hotel Kyoto, Kyoto, Japan
  • 年月日: 2011-10-27
• [学会発表] 極端紫外自由電子レーザーによる極薄膜高分子内のスパー制御 (2011)
  • 著者名/発表者名: 岡本一将、古澤孝弘、及川敬太、初井宇記、永園充、亀島敬、富樫格、登野健介、矢橋牧名、木村洋昭、仙波泰徳、大橋治彦、石川哲也、住吉孝
  • 学会等名: 第54回放射線化学討論会
  • 発表場所: 大阪大学
  • 年月日: 2011-09-30
• [学会発表] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser, SPIE Advanced Lithography 2011 (2011)
  • 著者名/発表者名: Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Takaki Hatsui, Yasuharu Tajima, Keita Oikawa, Mitsuru Nagasono, Takashi Kameshima, Tadashi Togashi, Kensuke Tono, Makina Yabashi, Hiroaki Kimura, Yasunori Senba, Haruhiko Ohashi, and Takashi Sumiyoshi
  • 学会等名: San Jose Convention Center and San Jose Marriott| San Jose
  • 発表場所: California, USA
  • 年月日: 2011-03-02
• [学会発表] Dynamics of radical cation of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist for EUV and electron beam lithography (2010)
  • 著者名/発表者名: Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
  • 学会等名: MNC 2010, 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Rihga Royal Hotel Kokura, Fukuoka, Japan
  • 年月日: 2010-11-11
• [学会発表] 芳香族分子の電荷非局在性に関する研究 (2010)
  • 著者名/発表者名: 岡本一将
  • 学会等名: 第53回放射線化学討論会
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2010-09-22