研究課題
若手研究(B)
微細加工用材料であるレジスト内でのイオン化後の微視的電荷ダイナミクスを、極端紫外光(EUV)自由電子レーザー(FEL)や電子線など量子ビームを励起源とする分光法を用い研究を行った。高分子フィルム中の酸発生の量子収率は、EUVFELのエネルギー付与線量率(dose rate)が下がることによって、増加することが示唆された。またパルスラジオリシスにより、ポリ(スチレン-アクリレート)共重合体やポリ(4-ヒドロキシスチレン)の電荷ダイナミクスについて明らかにした。
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Jpn. J. Appl. Phys
巻: 50 ページ: 06GD03
DOI:10.1143/JJAP.49.106501
DOI:10.1143/JJAP.50.06GD03
Proc. SPIE
巻: 7972 ページ: 797217
DOI:10.1117/12.879358
巻: 7972 ページ: 7972IN
DOI:10.1117/12.879362